中古 CANON PLA 501 FA #293749123 を販売中

CANON PLA 501 FAは、フォトリソグラフィで最も一般的に使用されるマスクアライナーの一種です。このツールは、定義済みのパターンを高い精度で表面または材料に転送するように設計されています。半導体ウェーハに回路レイアウトを転送したり、光に敏感で集積回路チップの実際の部品を形成するために使用することができるフォトレジスト材料を処理するために使用されます。このタイプのマスクアライナーは、より洗練されたモデルと比較してコンパクトで費用対効果の高いソリューションであり、一般的に研究室や学術的な設定で使用されます。CANON PLA-501FAはステッパーであり、非常に反復的なパターンの精度を最大化するために、露出と1つのアライメントステップの間に足を踏み入れることができます。2台の高解像度カメラシステムを搭載しており、正確なアライメントと登録が可能です。このカメラシステムは、オートフォーカスと精密な微調整機能を備えており、正確な画像アライメントと画質を保証します。マスクアライナーは、精密チューニングされたスキャン光学機器によって駆動されます。このシステムは、高精度のステージに取り付けられたガルバノメトリックミラーのペアを使用します。これらのミラーは電子的に制御され、スキャンおよび露出光学系を正確に移動させ、基板上に正確なパターンを表示して正確な印刷プロセスを実現します。PLA 501FAのスキャンユニットと露出ユニットは、通常、詳細なパターンのアライメントのために1300 x 1300µm以下のフットプリントを備えています。このマシンには、露光時間を最小限に抑え、精度を向上させる自動焦点合わせアライメントツールが含まれています。オートフォーカス調整アセットは、露出ごとに焦点を正確に測定し、常にビーム電力を調整し、最終的に必要な焦点を生成します。プログラム可能なエンドストップは、すべての露出で正確な始点と停止点を確保するためにプログラムすることができます。マスクの露出は、パターンの形状とサイズを制御するために独立して調整することもできます。CANON PLA-501 FAはPCとの接続が可能で、プログラミング精度を維持しながら基板の自動積み下ろしを容易にします。このアライナーには、露出中に適切な条件で基板を保持する温度および湿度制御モデルも装備されています。この装置は、レジスト、シリコーン、セラミック、ガラス、プラスチックなど、さまざまな基板に適応できます。このマスクアライナーには、研究および教育研究所での微細加工に適した機能が付属しています。そのコンパクトなサイズと費用対効果の高いソリューションは、より大規模で洗練されたモデルを必要としない研究者に好ましい選択肢です。精密な光学系と高精度なアライメント機能を備えたPLA-501 FAは、フォトリソグラフィと微細加工のための信頼性の高いプロフェッショナルな選択肢です。