中古 CANON PLA 501 FA #163565 を販売中

CANON PLA 501 FAは、高精度、高スループットのリソグラフィ用途に特化した最先端のマスクアライナーです。この装置は、ナノ/マイクロ電子デバイスの高度な製造のための最適なリソグラフィープラットフォームを提供します。キヤノンPLA-501FAは、基板全体にわたって安定した0.5µmのアライメント精度を提供することができ、次世代の集積回路デバイスに求められるデバイスパターンに対して、高精度でサブミクロンの臨界寸法測定を提供します。キヤノン独自の投影光学技術を採用し、高度な3次元マスクアライメントのための任意のチェーン行列の広い範囲を可能にします。ウエハレベルの高精度ステージを採用し、サンプルの正確な配置とサブミクロンの再現性を実現しています。また、ソフトUV、 ディープUV、 Iline、 e-beam、アナログ、デジタルリソグラフィなど、さまざまなレジストや露出ステップと完全に互換性があります。PLA 501FAは、1時間あたり最大256,000のアライメント測定を実行できる包括的なアライメント制御マシンを搭載しています。このツールは、オープンアーキテクチャのアルゴリズムを使用してアライメントプロセスを制御し、非常に複雑な露出プロセスに優れた動的パフォーマンスを提供します。統合ビジョンシステムにより、高精度のパターン認識が可能になり、ウェーハ表面の微細なディテールだけが検出され、正確にアライメントされます。PLA-501 FAは、直径8インチまでの2つの異なるサイズの基板を扱うことができ、メンテナンス性の低い設計のため、信頼性が高いです。結論として、PLA 501 FAは、ナノ/マイクロエレクトロニクス製造のニーズを満たすように設計された強力で信頼性の高いツールです。このアセットは、高いスループットレートで高精度を提供し、3次元マスクのアライメントのための任意のチェーン行列を可能にします。この機械は高精度のパターン認識が可能であり、さまざまな抵抗および露出ステップを可能にします。PLA-501FAは、最も要求の厳しいナノ/マイクロ電子デバイス用途の高度な製造に最適なモデルです。