中古 CANON MPA 600 FA #9060105 を販売中
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販売された
ID: 9060105
Projection aligner, 6"
Slit: 1.6mm
Includes:
Illumination power check meter, 7”
Focus tilt mask, 7”
DR Mask
Projection system:
Projection mirror:
Total reflection UM02
Magnification: 1x
Image size:
Stationary: Arcuate image 150 mm (L) x 1.6 to 2.0 mm (W), with radius of 95 mm
Scanning: Φ6 (150 mm) Over entire surface, excluding that under (3) disk claws
Magnification: 1x
Effective F number: Fe 3.5
Wavelengths used:
Printing (UV): 365 nm (i-line), 405 nm (h-line) & 436 nm (g-line)
Manual alignment: E-line (546 nm) & orange light
Auto alignment: 633 nm (He-Ne Gas laser)
Illuminator:
Light source:
USHIO ELECTRIC USHY-2002MA 2 kW Super-high-pressure mercury lamp
Illumination range:
Length: 150 mm
Width: 1.6 to 2.0 mm
Radius: 95 mm
Illumination uniformity: Within ±3%
Effective light source: σ = 0.7, σ = 0.6, σ = 0.5
Exposure:
Scanning speed: Φ5" (Φ125 mm)
Setting range: 5.0 - 150.0 sec (for 5" wafer)
Setting units: Uniform 0.1 sec increments
Scanning mechanism:
Feed / Control methods
Closed loop method with DC servo motor drive
Scanning speed: 5.0 to 150.0 sec (25 mm/sec-0.83 mm/sec) for 5" wafer
Carriage position setting:
Setting range: -75 mm to 75 mm
Increment: 0.01 mm
Setting accuracy: ±10 /µm
Alignment scope:
Objective lens: 10x, NA 0.2
Eyepiece: 10x, 15x
Erector lens: 1x, 2x, 3x
Low-magnification lens: 0.3x
Distance between objective lenses:
30 to 109.6 mm (Traveling simultaneously on both sides of center position)
Setting range of objective lens distance: 30.00 to 109.6 mm in 0.02 mm increments
Focusing travel (both fields of view): ±2 mm
Auto alignment:
Laser beam scanning
Light source: He-Ne Gas laser (633 nm), polarized type 5 mW
Dedicated patterns are used for auto alignment
Offset control: Read/write possible in range of 0 to 7.9 /µm
Tolerance setting: 0.25 (0.15) /µm, 0.5µm, 1 µm
Auto alignment time: Within 7 sec
Observation in auto alignment mode possible
Auto feeder:
Auto/manual switching: Automatic / Manual wafer feed selectable
Feed method: Belt & auto hand
Wafer size: 4"-6"
Applicable carrier: FLUOROWARE Type carrier: Standard
Capacity: 25 wafers
Pitch: 3/16"
Projection system focusing:
Focus adjustment: ±1.5 mm
Travel amount obtained by one rotation of knob: 10 µm
Power supply:
MPA-600FA: 200 VAC, 3Φ, 6 kVA, 50/60 Hz
Air supply unit: 200 VAC, 3Φ, 8 kVA, 50/60 Hz.
CANON MPA 600 FAは、CANONがウエハレベル包装用に開発した高精度マスクアライナーです。幅広い機能と機能を備えたフル機能のインストゥルメントで、幅広いデバイス製造アプリケーションでの使用に最適です。キヤノンMPA600FAは、赤外線を使用してマスクパターンをウェーハ表面に正確に投影および整列させる高分解能プロジェクションアライメント装置を採用しています。このシステムにより、微細な位置調整が可能になり、マスクパターンをウェーハ表面に正確かつ再現可能にアライメントできます。また、MPA-600FAには高出力レーザーアニーリングユニットが装備されており、ウェーハの選択した領域をさまざまな目的で熱処理することができます。ウェーハ全体に均一な熱を発生させ、均一な表面形成を実現し、温度の問題によるデバイスの故障を防止します。MPA 600 FAにはカスタムデザインのメタルマスクホルダーが装備されており、アライメント中にメタルマスクを正確に配置してウェーハに取り付けることができます。また、自動化された光学ステッパーも備えており、アライメントプロセスの速度と精度を大幅に向上させます。CANON MPA 600FAには、機器の操作と管理を容易にする自動制御ツールも含まれています。このアセットには、ユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスが含まれており、事前のトレーニングなしでパラメータの選択やマスクの制御など、さまざまな操作を実行できます。CANON MPA-600 FAは、異常動作時の自動シャットオフモデルや、粉塵や破片の侵入を防ぐ内蔵ダストフィルターなど、ユーザーとデバイスの両方を保護するさまざまな安全機能も備えています。キヤノンMPA-600FAは、高精度マスクアライナーを必要とする半導体デバイスメーカーに最適です。強力な機能、正確なアライメント装置、高度な安全機能を備えたMPA-600 FAは、ウェハレベルのパッケージングアプリケーションで最適な結果を得るための理想的なツールです。
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