中古 CANON MPA 500FA #9226328 を販売中

CANON MPA 500FAは、光学リソグラフィの高精度かつ再現可能な方法を提供する高精度の自動マスクアライナーです。MEMS、マイクロ流体、アスペクト比の高い微細構造およびナノ構造など、幅広い3D構造の製造および試験用に設計されています。それに200mm x 200mm （7。9 「x 7。9」）まで大きい作業域があります。アライメント精度は、横方向アライメントの場合は0。02micron （2nm）、縦方向アライメントの場合は0。15micron （0。15micron）です。アライメントの再現性は、横方向および縦方向のアライメントの0。01micron （1nm）を下回っています。CANON MPA-500FAは、ポリイミド、クロム、ゴールドマスクのアライメント用に設計されています。ポリイミドマスクの位置合わせ精度は0。03micron （3nm）です。MPA 500 FAは、重力送りシステム、サーボドライブ、および正確な横方向および垂直位置決め用のロータリーエンコーダを備えています。レーザー干渉計を使用することでアライメント精度が向上します。CANON MPA 500 FAは複数のマスクパターンを同時に揃えるようにプログラムすることができ、あらゆる光源と使用することができます。MPA 500FAは、波長365nm〜647nmの光源を持っています。光強度は調整可能で、露光時間は0。1msから1分まで可変です。露出は、TTL入力または内蔵のモノスタブルデバイスからトリガーされます。MPA-500FAは8ビットのマイクロプロセッサによって自動化され、制御されます。RS-232、 GPIB、イーサネットなど、さまざまなI/Oおよび通信オプションがあります。キヤノンLMS -III（レーザマイクロマシニングシステム）に対応しています。露出モードは半自動で、露出レベルと遅延はユーザーによって決定されます。CANON MPA 500FAは、光学リソグラフィーシステムとして0。15ミクロン以上の焦点深度を有し、非常に微細な構造物を扱うことができます。その分解能は他のマスクアライナーよりも高く、より広範囲の構造を可能にします。パターン化できる構造物のサイズも大きく、大規模な装置にも対応できます。全体的に、キヤノンMPA-500FAは、マスクアライメントと光学リソグラフィの高精度と再現性を提供します。MEMS、マイクロ流体、小規模デバイスなど、幅広いアスペクト比の3D構造の製造と試験に適しています。操作とプログラムが簡単でありながら、優れた解像度と焦点の深さを提供します。