中古 CANON MPA 500 Fab #17950 を販売中

CANON MPA 500 Fabは、フォトリソグラフィや微細加工プロセスに使用される、全自動の高性能マスクアライナーです。精度と精度を考慮して設計されており、再現性の高いデバイスやプロセスの信頼性を高めることができます。CANON MPA 500FABは、シリコン、石英、ガラスなどの基板上に高品質の画像パターンを作成するために特別に設計されています。このユニットは、1umから5umまでの高露光分解能と、マスクと基板パターンの正確なアライメントを提供する光学アライメント装置を提供します。ユニットの露出システムはまた、各サンプルの一貫した均一な結果を保証します。MPA-500FABには、基板とマスクの迅速なアライメントのために設計された標準的なX-Yスキャンテーブルが付属しています。このユニットは、200nmと小さい測定値でマスクを揃えることができ、ファインラインパターンアプリケーションに適しています。また、シャッター制御、露光光源のシャッター、パルス幅変調、直接制御露光光源出力など、広範囲の制御精密露出を備えています。CANON MPA-500FABでは、細かいパターニングと加工のための様々な機能を提供しています。例えば、このユニットには露光レベル制御回路が装備されており、露光光源の正確な平準化と向きを可能にします。さらに、従来の露出法に比べて最大5倍の露出強度で、金属などの高コントラスト材料の露出を可能にします。MPA 500FABは、パターニングに必要な露出ショットの数を減らすために、露出パターンを基板パターンに適応させる独自の機能を備えています。この機能により、スループットの向上、歩留まりの向上、コスト削減が可能になります。また、マスク編集、エッジ検出、基板表面検査、画像評価など、さまざまなソフトウェア機能を提供しています。これらの機能は、大規模なプロセスでも信頼性の高い正確な結果を提供します。要約すると、MPA 500 Fabは、フォトリソグラフィおよび微細加工プロセスのための高速で高品質のマスクアライナーに最適です。精密な制御と、さまざまな基板上の微細パターンの加工に最適な幅広い機能を提供します。また、プロセスワークフローを簡素化し、時間とコストの節約を最適化するための多くのソフトウェア機能も提供しています。