中古 BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 #9174090 を販売中
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販売された
ID: 9174090
ウェーハサイズ: 4"-6"
ヴィンテージ: 2011
Mask aligner, 4"-6"
Specifications:
Resolution:
1.25 um lines and spaces, UV-4 (340-440nm)
1.0 um lines and spaces, UV-3 (300-350nm)
Machine to machine overlay:
+/- 0.25 um, 125 / 100 mm systems, 98% of data
+/-0.30 um, 150 mm systems, 98% of data
Machine to itself overlay: +/- 0.25 um, 98% of data
Throughput:
120 Wafers per hour, 125 / 100 mm systems
100 Wafers per hour, 150 mm systems
Depth of focus: +/- 6 um for 1.5 um lines and spaces
Focus stability: +/- 2.0 um over 6 days
Focus range: +/- 200 um, +/-450 um
Extended bellows chuck:
Partial Coherence: Variable, 0.37 to 0.86
Numerical Aperture: .167
Uniformity of Illumination: +/- 3.0%
Particle generation: <7 Particles per wafer pass (1.0 um or larger)
Pre alignment and first-level placement accuracy: +/-15 um
Footprint: 18.65 Square feet (1.732 square meter)
Electrical: 120 Vac at 10 Amps, or 240 Vac at 5 amps
Includes:
Several spare parts
User manuals
2011 vintage.
BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000は、超精密マイクロファブリケーション用に設計された高度なプロセス駆動型マスクアライナーです。高度な光学技術と精密なモーションコントロール技術を組み合わせ、フォトレジスト層にパターンを作成するイメージフォーミング機器です。電子パッケージに線幅などの回路機能を定義し、各種部品のプリント基板を作成するシステムです。BSL OS2000ユニットは、光学、モーションコントロール、精密アライメント、人間工学に基づいた制御装置の4つの主要なサブシステムで構成されています。光学ツールは、フォトレジスト層にパターン化された画像を生成して目的のパターンを作成するために使用される2つのレーザービームで構成されています。モーションコントロールアセットは、マルチスピンドルモーターを使用してレーザービームを正確な位置に配置します。精密なアライメントモデルは、クローズドループサーボを使用してレーザービームの正確な位置を維持します。これにより、パターン化された画像がフォトレジスト層に正確に作成されます。人間工学的制御装置は調節可能なユーザーインターフェイスおよび人間工学的制御とのユーザーの慰めを保障するように設計されています。BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000は、優れた解像度と精度を提供します。最大50nmのパターン分解能を実現し、細かい開きや重要な特徴を正確に再現できます。このシステムはまた、高い線形性を提供し、オリジナルの設計に高い忠実性を提供します。さらに、標準的な可視光から紫外波長まで幅広いエネルギーで動作することができ、可変波長範囲があります。このマシンは、生産品質管理とスループットを確保するための再現性を提供します。OS2000は半導体およびプリント基板の製造業のための理想的な選択です。最新の微細加工技術と最高レベルの精度を兼ね備えており、設置と使用が簡単です。高度な自動化機能により、マスクアライナー操作に関連するコストと時間を削減できます。さらに、信頼性が高く、一貫した結果が得られます。
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