中古 ABM Custom #9111321 を販売中
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ID: 9111321
ウェーハサイズ: 8"
Mask aligner, 8"
Zeiss high resolution mask alignment microscope
500 Watt UV power supply
Top and backside alignment
Table-top configuration
Adjustable vacuum contact
Precision alignment module for piece parts up to 8" Square, .005" to .3" Thick
Top (2" to 10") and Bottom (2" to 8") vacuum mask holders
Fixed level or Wedge compensation vacuum chucks
Uniform / Collimated exposure beams, Near UV, Mid UV, Deep UV
2-Channel 200 To 2,000 Watt intensity controlling power supplies
Splitfield CCD/TV alignment systems / microscopes
Single Field Zoom & High Magnification Microscopes
Standard support and vibration isolation tables.
ABMカスタムは、半導体デバイス製造アプリケーション向けに設計された非常に精密なマスクアライナーです。これは、最も困難なレイヤーデザインの製造のためのマスクの正確な位置を可能にする高度な光学およびイメージングコンポーネントのスイートが装備されています。このツールは、超薄型ハードマスクやポリイミドアプリケーション、高度なフリップチップおよびファンアウトアプリケーションなどのカスタムマスクレイアウトニーズに特化して設計されています。ABMカスタムは、非常に高い精度と再現性を備えた3軸ポジショニング装置を備えています。この位置決めシステムにより、マスクがウェーハの表面に正確に配置されます。また、マスク位置の歪みやずれを補正する自動ビジョンアライメントユニットも装備しています。このマシンは、困難な形状で作業しながらも、ウェーハ表面への高速で正確で反復可能なマスクアライメントが可能です。また、カスタムは特殊な画像処理アルゴリズムを使用して、画像アライメントの高解像度とスループットを実現します。洗練された画像解析アルゴリズムを使用して、周辺の歪みを補正し、ウェーハ上のマスクを整列させることができます。さらに、ABM Customでは、ピッチ、オフセット、自動露出レベルの調整など、露出パラメータを複雑に最適化できます。このツールには、露出設定を微調整する自動補正アルゴリズムも含まれています。これにより、レイヤーデザインの複雑さに関係なく、マスクが正確かつ一貫して揃うことができます。カスタムは、ABMカスタムマスクレイアウトニーズのために設計された正確で信頼性の高いマスクアライナーです。その高精度と再現性は、超薄型ハードマスクやポリイミドアプリケーションから高度なフリップチップおよびファンアウトアプリケーションまで、幅広いレイヤー製造アプリケーションに優れたソリューションを提供します。その画像処理アルゴリズムと統合された最適化パラメータにより、マスクの信頼性の高いアライメントが可能になり、効率的で費用対効果の高いマスクアライナーが得られます。
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