中古 ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M #293596008 を販売中

ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mマスクアライナーは、半導体集積回路（IC）製造のアライメントプロセスに使用される精密機器です。通常、ウェーハステージとレチクルステージの2つの主要コンポーネントで構成されています。ウェーハステージは、アライメントサイクルの前にウェーハの位置をサポートし、整列します。レチクルステージは、ウェーハのアライメント位置に対するフォトマスク（またはレチクル）のアライメントを担当します。どちらのステージも、ウェーハを吸い込んだり、レチクルを下げたりする真空システムを備えており、アライメントプロセスにしっかりと安定した基盤を提供します。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mマスクアライナーには、ビームスプリッターと2つのレンズで構成されるコリメーションシステムが装備されており、ウェーハとレチクル間の角度のずれを測定するために使用されるコリメート光源を提供します。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mマスクアライナーのアライメント精度は、X-Y-Z軸に沿って動作する多数のサーボモータの助けを借りて達成されます。これらのサーボモータは、最大+/-0。5ミクロンの水平および垂直の微調整精度を提供し、維持します。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mマスクアライナーは、高度なオペレーティングユニットを備えた産業用PCと、アライメントプロセス全体、位置決め、スキャンを制御するための個々のソフトウェアを搭載しています。これにより、マシンはウェーハとレチクルを配置し、ミスアライメントを測定し、必要に応じてアライメントを調整または修正することができます。さらに、PCプラットフォームは、設定、モニター、トラブルシューティング、診断のためのネットワーク機能も提供します。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mマスクアライナーには、2つのイメージングシステムとアークセンサーを備えた連続UV光源からなる光学機器が採用されています。イメージングツールは、レチクルとウェーハの画像をキャプチャするために使用され、アークセンサーは接触角を測定します。これにより、エラーレートが一貫して低いX-Y-Z軸の動きの最大精度が保証されます。さらに、ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mにはデュアルカメラ制御装置（DCCD）も含まれており、レチクルとウェーハの画像を観察および比較するために使用され、より信頼性の高いアライメント結果を提供します。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/Mマスクアライナーは、アライメント結果に優れた精度を提供するように設計されています。最大0。25ミクロンの再現精度を提供し、全体のアライメント精度は+/-0。5ミクロンに設定されています。これにより、最先端の半導体生産ラインのアプリケーションに最適です。さらに、高度な制御資産、信頼性の高い光学モデル、簡単なネットワークにより、操作が簡単かつ効率的になります。