中古 ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M #9293272 を販売中

ID: 9293272
ウェーハサイズ: 2"-4"
ヴィンテージ: 2010
Mask aligner, 2"-4" 2010 vintage.
ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/Mは、先進的な半導体製造プロセス向けの高性能で最先端のマスクアライナーです。感光材料とウエハなどの基材との接触アライメントを高精度かつ再現性に優れています。マスクアライナーは、350 nmの波長、ナノメートル(nm)分解能のビーム源、および安定性を向上させるための動的充電制御ドライブ(DCCD)装置を備えています。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/Mは、大量のフォトマスク生産を可能にするために、非常に正確なアライメントとパターンアライメントが可能です。これは、プログラムされたアライメントソフトウェアと、電動ステージによるウェーハの制御操作によって実現されます。これらのモータは、ウェーハを正確に位置決めできる高精度のモーションコントロールユニットによって駆動されます。また、6インチ(6インチ)の多層光学システムを搭載し、優れたイメージングとアライメント精度を実現しています。これは、デバイス表面のプロセス誘発応力を大幅に低減することが証明されている350 nmの近紫外線によってさらに強化されています。これにより、基板欠陥の発生率が低下し、歩留まりが改善されます。さらに、アライナーにはダイナミックチャージコントロールドライブ(DCCD)ユニットが内蔵されており、精度、再現性、精度をさらに向上させます。DCCDマシンは、位置合わせプロセス中に外部干渉によって引き起こされる電荷ベースの興奮に対抗するため、位置調整時間を短縮することで動作します。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/Mは、複雑で高精度な製造アプリケーションに使用できます。サブミクロンの機能サイズや高度なMEMSやNEMSプロセスに関わるような、半導体の作業環境にも適しています。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/Mは、高精度で再現性の高いアライメントとイメージング機能により、高品位な半導体フォトマスクの製造に最適です。堅牢な設計と精度の向上により、歩留まりとコスト削減をさらに向上させ、最高レベルの精度を維持します。
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