中古 NEW WAVE AccuScribe SS40EL #9248495 を販売中
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ID: 9248495
ヴィンテージ: 2004
Laser scriber
With jasper laser
Non functional laser
Throughput: Up to 3.3 wph
Scribe time: < 17.18 min
Alignment time: < 60 sec
Scribe:
Depth: 20 µm ± 10%
Kerf width: 5.0 µm (typically)
X-Y Stage:
Travel: 100 mm x 100 mm
Resolution: 1.0 µm
Accuracy:
±3 µm Over 50 mm, orthogonality
3.8 µm Over 100 mm, repeatability 2 µm
Lifetime of laser diode: 10,000 hrs
Laser system classification: Class 1
Ambient temperature: 20°-25°C (68°- 77°F)
Wafer vacuum: 10-15" of Hg
Nitrogen for laser purge: 15 psi
Vacuum for debris removal:
Flow rate: 10 cfm
Vacuum level: 60" of water through a 1/2" ID tube
Nitrogen to laser head purge: 2-5 seem
Power supply: 100-120 or 200-240 VAC, 50/60 Hz
2004 vintage.
NEW WAVE AccuScribe SS40ELは、産業用および製造用に特別に設計された超精密、高性能レーザーです。高精度な加工プロセスを提供するソリッドステートレーザーであり、さまざまな産業および製造活動のための正確な再現可能な動作を可能にします。このレーザーには、強力なパルス制御システム、エネルギー「メモリ」機能、高度なセグメンテーションアルゴリズムなど、いくつかのユニークな機能が組み込まれています。AccuScribe SS40ELは、強力なパルス制御システムを備えており、レーザーのパルス周波数と時間構造を正確に制御できます。このシステムにより、ユーザーはパルスエネルギーを最小限に抑え、動作中に最高の精度を維持することができます。この機能は、材料の消費量を削減するのにも役立ち、効率とコスト削減につながります。さらに、NEW WAVE AccuScribe SS40ELレーザーのエネルギー「メモリ」機能は、最大25個のビームをメモリに保存することができ、操作中の効率を向上させるために迅速かつ簡単にアクセスできます。AccuScribe SS40ELレーザーの高度なセグメンテーションアルゴリズムは、さまざまな産業および製造アプリケーションを可能にします。このアルゴリズムにより、薄肉材料を使用しても、レーザーは非常に正確で正確な加工結果を生成できます。NEW WAVE AccuScribe SS40ELレーザーによって提供される精度は、マイクロメートルとナノメートルのサイズに拡張することができます。これにより、スポット溶接、繊細なワイヤの切断、ガラスやカーボン複合材を含む極めて困難な表面の微細加工などの用途に使用することができます。AccuScribe SS40ELレーザーは、加工アプリケーションのための強力かつ経済的なツールです。高度な機能と高効率を備えており、材料の廃棄物や運用コストを大幅に削減できます。これにより、高信頼性で産業および製造環境の要求を満たすことができるレーザーが追加されます。レーザーはまた、既存の処理システムに簡単に統合できるように設計されており、さまざまな業界や企業にとって理想的なソリューションです。
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