中古 ESI 5335 #9364413 を販売中

ESI 5335は、産業用レーザー材料加工タスク用に設計された、産業用のQスイッチショートパルス発振器アンプ・レーザー装置です。コンパクトで高効率なショートパルスNd:YVO4レーザーモジュールで構成され、パルス幅は200nsから25nsまで、出力電力は2000Wまでです。レーザーシステムには、レーザー発振器、アンプ、高調波発生器を内蔵した統合レーザーヘッドが装備されており、複数の動作設定が可能です。発振器は、非常に複雑な光学部品と冷却素子の範囲を含む特別なハウジングに取り付けられた彫刻必須のネオジム・ドープ・バナデート（Nd:YVO4）結晶で構成されています。レーザーヘッドは、レーザーへの最適な電力供給を保証する高効率DC電源のペアによって駆動されます。発振器は、約200μJの最大パルスエネルギーを生成するように設計されています。独自の設計により、ピークパルスエネルギーでも最小限の熱レンズと最適なビームプロファイルが保証されます。最大パルス繰返し速度は100kHzで、ピークパルス幅は25nsに制限されます。レーザーを制御するために、レーザーユニットには、パルス幅、反復速度、電力などの特性を調整するための包括的な制御スイートが装備されています。これらは、高調波発生器とともに、ユーザーに最適な結果を得るためにレーザー出力をカスタマイズする能力を与えます。レーザーマシンは、複合材料の微細加工、幅広い材料の切断、溶接、マーキングなどの精密レーザー材料加工作業を行うことができます。精密レーザー部品の製造、シールの作成、小型電子機器の溶接、先進医療機器の製造などの製造業務に最適です。このツールには、外部センシングメカニズム、緊急停止、マシンオフモード、および環境を継続的に監視および分析するソフトウェア設定可能なアンチビームカーテンが含まれています。このレーザーは国際的なレーザーの安全基準（IEC 60825-1）のような産業安全基準を満たすために証明されます。このモデルは、最大限の運用信頼性を確保しながら、最適な性能を提供するように設計されており、メンテナンスはほとんど行われていません。ユーザーフレンドリーで使いやすい設計で、幅広い産業用途に適しています。