中古 ESI 5330Xi #293767599 を販売中

ESI 5330Xiは、エネルギーの10,000mJまでナノ秒パルスを生成することができる高出力の紫外レーザーです。それは3Dプロファイリング、印、接続、物質的な処理および生産ライン統合を含む多くの産業および科学的な適用のために使用される独立レーザーです。ESI 5330 XIは、わずか0。6mmの幅の狭いレーザーラインを生成し、Qスイッチモードでは1秒あたり最大500kHzまたは50万パルスのレートを達成できます。5330Xiは約40％の高い光効率を備えており、消費される電気エネルギーの半分近くがレーザーエネルギーに変換されます。レーザーはNd： YAG結晶を使用しており、355nmで3番目の高調波光を生成し、25〜30kVの電圧で動作するコンデンサバンクによって励起されます。また、KTP結晶などの非線形光学元素を使用して、出力エネルギーレベルを標準的に20-100mJ範囲でさらに除去します。トータルコントロールシステムは、チラーユニット、自動スイッチングユニット、マイクロ波ジェネレータユニット、および精度を高め、迷光を低減するように設計された真空ベルで構成されています。レーザーシステムは長期操作および高度のユーザーの安全を保障する高度の安全機能および厳密な作り付けのテストが装備されています。出力ビームの正確な組成により、5330 XIはレーザーマーキング、3Dプロファイリング、およびその他の材料加工タスクに好ましい選択肢となります。さらに、強力なレーザーは繊維かプロフィールをすぐに結合して鋭い端およびパターンを作成することができます。ESI 5330Xiは、既存の製造環境に簡単に統合できるため、生産ラインの統合に最適です。レーザーには、既製のハードウェアコンポーネントに加えて、さまざまなソフトウェアベースのソリューションも付属しています。独自の機能を備えたESI 5330 XIは、クラスで最も強力なレーザーシステムの1つです。