中古 ESI 5200 #9276312 を販売中

ESI 5200は、特に硬質金属や半導体を用いた精密材料加工用に設計されたマルチパルスピコ秒（ps）レーザーです。GTFT （Gain-Switched Frequency Tripler）レーザーヘッドを備えた再生アンプ装置で、パルス反復制御されています。5200の主な設計は、出力ウィンドウ、制御セクション、および制御セクション内の他のコンポーネントで構成されています。ESI 5200の出力ウィンドウは、レーザービームの配信を担当しています。200〜5200 nmの範囲のダイオードポンピングNd： YAGレーザーバイブレータと400 mJのエネルギーを備えています。レーザーの脈拍の持続期間は500-510nm波長の範囲の8-90 psから調節することができます。ESI 5200の制御セクションは、出力の正確な制御と操作を可能にするように設計されています。シングルチャンネルステップチューナブルモジュレータとドライバを備えています。これにより、調整可能な繰り返し速度やピーク電力など、最大32のパルスパラメータが可能になります。レーザーのパルス反復速度は50kHzから1MHzまで、最大パルスエネルギーは1。8mJまで変化します。5200は、アクティブなQスイッチングシステムを備えており、レーザーパルスを調整し、焦点を合わせる機能を強化し、スポットサイズを1mm未満にすることができます。パルスフラットニングユニットを搭載し、パルス歪みを低減し、出力の再現性を向上させます。レーザーマシンには保護ツールも用意されており、緊急時には光学部品やその他の部品の損傷を最小限に抑えることができます。ESI 5200は、特に硬金属や半導体を用いた精密材料加工において貴重なツールです。それは一貫した性能を提供し、材料をさまざまなレベルの複雑さで処理し、高精度および再現性を達成します。レーザーの設計、使いやすさ、堅牢な構造により、5200は切断、彫刻、アニールなどの高精度で効率的なプロセスアプリケーションに最適です。また、複数の部品を同時に並列処理することも可能です。