中古 ESI 5200 #293735009 を販売中

エンハンスド・ショート・インパルス（Enhanced Short Inpulse、 ESI） ESI 5200は1990年代後半に開発された短いパルス周期型レーザー装置である。このデバイスは、パルス持続時間が6nsのNd： YAG（ネオジムドープされたイットリウムアルミニウムガーネット）レーザー、パルス反復速度が5kHz、パルスエネルギージッタが10％未満のパルスあたり最大60mJの出力エネルギーです。レーザーシステムは、薄膜アブレーションと太陽電池の研究用に特別に設計されました。レーザーに水冷式のフラッシュランプによってポンプで送られる技術があります。ユニット内のフラッシュランプには、IR（赤外線）放射を除去して出力光を最大化するための特別なフィルターが装備されていました。このマシンは、フォトダイオードベースのフィードバックツールを使用して、望ましい範囲の光強度を調整し、フリーランニングシステムで動作します。このレーザーは、出力周波数の低熱ドリフトで長時間動作することができました。デバイスの周波数安定性は、フィードバック資産を使用してフラッシュランプのエネルギーを常にチェックして制御することによって保証されました。レーザーには、専用のローカルコントロールパネル、光学安全スイッチ、過電圧保護回路など、いくつかの安全機能が装備されていました。オンボードコンピュータは、レーザーのパフォーマンスパラメータを監視し、誤動作や異常操作に関する警告メッセージを表示しました。フラッシュランプのためのレーザー制御および電源はコンピュータを通して提供されました。レーザー装置には自動ビーム制御モデルも搭載された。この自動化された装置は、レーザービームフォーカス、発散、安定化を制御することができました。この機能により、様々なレーザー部品や光学部品を使用して、最高レベルのビーム強度の領域を達成することができました。これにより、ユーザーは5200で複雑なレーザー加工を行うことができました。このデバイスには、精密なビーム制御のための光減衰器と、レーザービームのさまざまな領域での強度プロファイルを測定するためのレーザービームプロファイラも装備されていました。ESI 5200は、水冷技術によりメンテナンス要件が低く、信頼性の高いレーザーデバイスでした。このシステムは長寿命であり、金属切断および材料加工アプリケーションで広く使用されていました。現在でもいくつかの実験室や用途で使用されている。