中古 CYMER XLA 160 #9294813 を販売中
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販売された
ID: 9294813
ヴィンテージ: 2006
Laser
Product type: Deep UV wafer stepper
Wavelength: 193 nm
Process: Litho illumination
2006 vintage.
CYMER XLA 160は、高度なエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス用途向けに設計された半導体ベースのレーザー装置です。この高性能レーザーシステムは、最大160MHzのパルス反復速度で高精度パルスを提供することができます。このレーザーユニットは、実績のあるレーザダイオード技術に基づいて構築されており、高度な温度制御、複数のスポット形状、カスタムパルス配信、および低ノイズ制御など、多くの高度な機能が組み込まれています。XLA 160は、高出力の半導体ベースのレーザーマシンで、商用および産業向けの堅牢で信頼性の高いソリューションを提供します。このレーザーツールは、材料加工と薄膜蒸着を駆動するために精密で高出力のレーザーパルスを必要とする高度な産業用途に適しています。また、フォトニックおよびオプトエレクトロニクス部品を含む研究開発プロジェクトにも最適です。レーザー資産の高度な温度制御は、最適なレーザ性能を維持するのに役立ちます。この機能により、動作中に出力電力が一貫していることが保証され、稼働時間の延長による熱損傷のリスクが低減されます。複数のスポットシェイプは、さまざまなアプリケーションに柔軟性を提供し、カスタムパルス配信オプションにより、カスタマイズされた電力制御を可能にします。さらに、レーザーによって提供される低雑音制御は干渉および他の不必要な電気信号を防ぐのを助けます。CYMER XLA 160には、統合制御モデルが搭載されており、幅広い統合ネットワークを介したリモート制御が可能です。この装置は、運転条件やセンサ制御パラメータに関するリアルタイムのフィードバックも提供します。全体として、XLA 160は、幅広いオプトエレクトロニクス用途に最適な性能を提供する先進的な半導体ベースのレーザーシステムです。このレーザーの単位は多数の点の形、調節可能な温度調整、注文の脈拍配達、低雑音制御、統合された制御システムおよび160 MHzまでの出力電力を特色にします。
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