中古 CYMER XLA 160 #9177760 を販売中
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販売された
ID: 9177760
Laser
Wavelength (Center): 193.386 nm
Repetition rate: 1 to 4000 Hz (1 Hz increments)
Nominal pulse energy: 10 mJ
Average output power: 40 W
Pulse duration (TIS): ≥45 ns
Duty cycle at 4 kHz: 75%
Spectral bandwidth (FWHM): ≤ 0.2 pm
Spectral bandwidth (E95%): < 0.65 pm
Short term wavelength stability: ≤ ± 0.025 pm
Horizontal beam size: 11.1 ± 1.1 mm
Vertical beam size:
9 ± 0.6 mm
11.6 ± 0.6 mm
Horizontal beam divergence:
1.75 ± 0.75 mrad
0.55 ± 0.35 mrad
Vertical beam divergence:
2.75 ± 0.75 mrad
1.2 ± 0.5 mrad.
CYMER XLA 160は、CYMER、 Inc。によって開発された高出力指向エネルギーレーザーです。それは精密フォトリソグラフィ、医学および科学研究、および産業および防衛の適用で使用されるように設計されています。2005年に発売されたXLA 160は、これらの要求の厳しい用途において非常に汎用性が高く、効率的で強力なレーザーとして評価されました。このレーザーは、160ワットのピーク出力を生成することができ、8。5 kWの低消費電力により、太陽光、熱、またはレーザー誘発プラズマ源に特に適しています。それは、その目的のアプリケーションのための柔軟性、汎用性、価値を提供します。CYMER XLA 160は、単一の視覚を備えた万能モノリシックなデザインを特徴としています。それは4ミラー光学装置と形成され、自動ビーム調節機能をレーザーに与え、レーザーが連続波(CW)および脈打ったモードで作動することを可能にします。このユニークな機能により、CWとパルスモードをフライで切り替えることができる数少ないレーザーの1つです。パルスモード動作を利用することにより、レーザーはCWモードよりも高い出力電力レベルを提供することができます。XLA 160には高速マイクロプロセッサ制御ビームステアリングシステムが組み込まれており、ナノメートル分解能の光学コヒーレントモグラフィー(OCT)イメージングが可能です。ビームステアリング精度は、クローズドループ制御とビームステアリング光学の組み合わせによって達成されます。また、高度な精密アライメントユニットを使用して、OCTイメージングオプティクスに関連したレーザービームの最適な位置決めを行います。安全性もCYMER XLA 160の重要な特徴です。このレーザーは、目に安全なビーム(ユーザーが誤ってレーザービームにさらされないように設計されています)を備えており、安全な操作のためにIEEE-488に準拠したコントローラを使用しています。すべての設定は調整可能で、リモートで監視することができます。XLA 160は、優れた性能特性を備えた信頼性とエネルギー効率に優れたレーザーマシンです。使いやすいコントロールと幅広いアプリケーションにより、業界、研究、防衛アプリケーションに最適です。さらに、その洗練されたビームステアリング技術、低消費電力、高度な安全機能により、CYMER XLA 160はレーザーフォトリソグラフィやその他の要求の厳しいレーザーアプリケーションでの使用に最適です。
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