中古 CYMER XLA 140 #9296982 を販売中

CYMER XLA 140は、半導体製造のリソグラフィ工程で使用される光源です。40Hzで最大140mJの強力なレーザーパルスを生成することができ、高度な微細加工アプリケーションでの使用に最適です。CYMER XLA140は、Nd： YAGとKrFアクティブメディアを組み合わせたユニークな光学設計を備えた、ソリッドステート、ハイブリッド、エキシマスタイルレーザーです。システムは、操作が簡単で、柔軟性が高く、ユーザーフレンドリーなアーキテクチャで設計されており、その最大パルスエネルギーは特定のアプリケーション要件に合わせて調整することができます。パルスエネルギー制御範囲は5〜140 mJで、サブピコ秒の持続時間とパルス間の安定性は5％以内です。また、高分解能の空間振幅フィルタと、ゼロジッタによるパルストリガーを提供する高度な電源設計を備えています。XLA-140は、中低電力のリソグラフィのニーズをサポートするように設計されています。高精度の水冷ビームラインを内蔵しており、放射線ビームパラメータの効率的かつ低リスクのプリコンディショニングおよびポストコンディショニング用に設計されています。これにより、一貫したビーム品質が保証され、運用コストと熱負荷の可能性が削減されます。レーザーは1つのエキシマレーザーから作動し、合計電力は4 kWで、最大50,000 W/cm2のパルス強度の出力電力で動作します。電源要件は、標準の208 VAC、 20アンプ入力を介して簡単に満たされます。また、XLA140は13。9インチ（H） x 40。7インチ（W） x 52インチ（L）のコンパクトなフットプリントを備えています。ノーマルと反転の両方の向きの実装が可能で、高い振動絶縁性を備えています。CYMER XLA-140は、設置の容易さ、高度な機能、および所有コストの低さにより、多種多様な精密微細加工ニーズに最適です。