中古 CYMER ELS 7600M #9240618 を販売中

CYMER ELS 7600Mは、半導体ウェーハの高速パターニング用に設計された先進的なエキシマレーザー装置です。このプラットフォームは、独自の技術により、非常に精密なレーザービーム制御とパターニング機能を提供します。レーザーシステムは、拡張されたデッキ間隔の柔軟性、最適化されたパルス特性、および高度なアルゴリズムのセットアップを提供します。ELS 7600Mは、0。15 μ mまでのピッチでパターンを作成することができるレーザー光の非常に細かいビームを生成します。このレーザーユニットはパルス持続時間を5 μ sまで調整し、最適なパターニング精度を実現します。5mJ〜200mJの出力を実現することで、高密度ミクロンレベルのパターニングタスクを高精度に実行できます。CYMER ELS 7600Mには、193〜351 nmの数多くの波長で利用可能なレーザーがあり、各蒸着プロセスにレーザー光線特性を慎重に調整し、可能な限り最良の結果を保証します。優れたダイナミックコントロールを提供し、最大8 μ mのディープフォーカス深度と、最も困難な環境での長期運用に優れた安定性を提供します。レーザー機械の光学間隔は最高の効率のための60から600のmmまで調節可能です。レーザーヘッドは、ターゲット上のレーザスポットの位置を制御することにより、高精度で効率的なスキャンを提供する3つの垂直スキャンガルボのセットに取り付けられています。ELS 7600Mは、競合他社のシステムよりも最大8倍の高速なパターンを生成でき、パルス度マクロを毎秒50000ラインまで使用することで、比類のない生産速度を実現します。レーザーツールはまた、スキャンを監視し、リアルタイムで出力の動的画像を出力する統合ビームビューカメラを備えています。直感的なソフトウェアは、最高の精度のために正確かつ迅速にレーザーアセットを設定するエンジニアを支援します。さらに、独自のData Acquisition and Controlソフトウェアにより、高度なネットワーキングおよびモニタリング機能のためのレーザーのリモート監視および制御が可能になります。全体として、CYMER ELS 7600Mは、半導体ウェーハの高速パターニングを並外れた精度と精度で行うために設計された高度なエキシマレーザーモデルです。調節可能な波長、動的パルス制御、最適化されたビームパターニングなど、その印象的な機能セットは、装置を非常に要求の厳しいアプリケーションに理想的にします。