中古 CYMER ELS 7000 #293656110 を販売中

CYMER ELS 7000レーザーはCYMERによって開発され、製造されたエキシマーレーザー源です。このレーザーのモデルは、主に高度なマイクロおよびナノエレクトロニクスを含むナノレベルのデバイス製造に使用されます。このレーザーは、大規模なチップ生産に不可欠な3次元フォトレジスト構造を作成するように設計されています。ELS 7000は堅牢で信頼性の高いLD ArF （193 nm）エキシマレーザー設計を備えており、半導体およびナノテクノロジー業界のニーズの高まりを満たしています。この装置は193nmの単一の波長の転換された標準的なArFレーザーです。6インチレーザーチャンバーと、0。8 kWから2。5 kWまでのさまざまな電力定格オプションが含まれています。レーザーシステムは、主にフォトレジストパターニングや化学蒸着（CVD）アプリケーションの開発に使用されます。CYMER ELS 7000ユニットは、インプロセスデータを収集することができる統合されたレーザー電力生産性監視機を備えています。このツールは、トレーサビリティと製品品質管理を提供し、最終製品の歩留まりと信頼性を向上させるのに役立ちます。さらに、パルス連続性とパルス制御技術を備えており、高速で安定したレーザーパルス源を可能にし、重要なプロセスの層の制御をさらに強化します。全体として、ELS 7000レーザーは半導体プロセッサの工業生産に適しており、非常に手頃な価格で信頼性の高い高出力動作を提供します。パワフルな単波長と継続的に改良されたレーザーソース設計により、ナノテクノロジーのアプリケーションに最適です。統合された監視モデルは、製品の品質とトレーサビリティを保証する効率的で費用対効果の高い方法を提供します。