中古 CYMER ELS 6400 #9257275 を販売中

CYMER ELS 6400は、半導体デバイスの製造に使用するために設計された高性能レーザーシステムです。これは、信頼性が高く、堅牢で高出力のレーザーソースであり、さまざまなレーザーターゲットでより短く、より高出力のレーザーパルスを生成することができます。CYMER ELS-6400は、最大8つのレーザーターゲットゾーンにわたってシングルパルス、ダブル、またはトリプルパルスを生成することができる多横ビーム放射方式を備えています。これにより、短時間で優れたカバレッジと優れた加工品質を実現します。レーザーは、連続波（CW）またはパルスモードで動作し、調整可能なパルス幅で広範囲にわたって出力電力を調整できます。そのパルス持続時間は、1ピコ秒（1 x 10-12秒）の短いパルスを生成する能力を備え、高感度アプリケーションに合わせて調整することができます。ELS 6400は、高い光学出力を含むさまざまな高度な機能を備えており、スループットと歩留まりの向上を可能にします。また、過熱/過電圧保護やレーザーインターロックなど、高いレーザー精度を維持するための高度な安全機能も備えています。レーザーは、オーバーレイ補正、正確な露出校正、厚いフォトレジスト層の除去、フォトレジスト層の精密ドライエッチングなど、さまざまな用途に適用できます。ELS-6400は、高い平均電力と精度のタイミングを提供することができるダイオードポンプ、ソリッドステートプラットフォームに基づいています。レーザーは正確なビームのポイントおよび位置を保障する繊維結合されたレーザーの頭部を実際のレーザーの脈拍の有効/無効/遅れ、また調節可能な表示要素のための脈拍のピッカーと含んでいます。CYMER ELS 6400には、内蔵の診断機能、およびリモートコントロール用のUSBドングルインターフェイスが装備されています。この汎用性の高いレーザーシステムは、トータルコストを抑え、クリーンで効率的かつ正確なパフォーマンスを提供します。機械は作動し易く、非常に信頼できるそれを生産ラインのための理想的な解決にします。