中古 CYMER ELS 5610 #9389758 を販売中

CYMER ELS 5610は、薄膜の高精度レーザー加工用に設計された最先端のエキシマレーザー装置で、硬くて脆い表面を含む様々な材料を使用しています。集積回路製造、ダイレクトレーザテクスチャリング、およびその他の高度なフォトニクスベースの製造プロセスに最適なソリューションです。優れたビーム品質と10 Jまでのパルスエネルギーを備えたELS 5610は、2kHzの競争力のある共振周波数とコンパクトで人間工学に基づいた設計により、最大の空間効率を実現しています。CYMER ELS 5610には、単一の縦方向モード（SLM）とスーパーモード（SM）の2つの標準的なエキシマレーザー放電タイプが装備されています。SLM放電モードは透明な材料の処理に適していますが、SM放電モードは不透明な材料の処理に使用できます。その先進的なトリガーアーキテクチャは、カスタムファイアレートと、そのクラスの任意のエキシマレーザープラットフォームのショット安定性と再現性の高いショットをサポートしています。ELS 5610の内蔵外付けキャビティアブソーバは、外付けアブソーバの必要性を排除し、堅牢なアブレーション性能を提供します。レーザーは手動ダイバーター、電気光学シャッター、およびacousto光学シャッターを含むいろいろなシャッターのタイプと形成することができます。また、内蔵ビームホモゲナイザー、高速メカニカルシャッター、光減衰器、ビームエキスパンダ、たわみミラーなど、幅広いビームプロセッサで構成することができます。用途に合わせて幅広い光学部品を取り揃えています。CYMER ELS 5610は最大160 mmのスキャンが可能で、内蔵のモーションコントロールシステムはあらゆるタイプの2Dまたは3Dアプリケーションをサポートします。統合された内蔵冷却ユニットと高度なパワーコントロールマシンは、光学系への熱損傷なしに安定した動作を保証します。統合されたパワーモニタリングツールは、正確なビームプロファイリングを可能にし、高精度で構造的に健全な統合マイクロマシニングのための長期安定性を提供します。高度なオプトエレクトロニクスアプリケーションを実行するために、ELS 5610は、レーザー医療イメージングシステム、レーザープロジェクター、3Dイメージングシステムなど、多くの外部光学系と統合することができます。高度なデータ収集アセットはリアルタイムの監視とデータロギングをサポートし、モデルはパルス幅変調やその他の高度な機能でアップグレード可能です。CYMER ELS 5610は既存の生産工程に容易に統合でき、少量生産に適しています。この高効率な装置は、精密製造アプリケーション向けの信頼性と費用対効果の高いソリューションです。それは高精度および高いビーム質を要求する多くの適用に精密で、信頼できるレーザー処理を提供します。