中古 CYMER ELS 5400 #9293807 を販売中

CYMER ELS 5400
製造業者
CYMER
モデル
ELS 5400
ID: 9293807
ヴィンテージ: 1997
KrF Laser 1997 vintage.
CYMER ELS 5400エキシマレーザーは、マイクロエレクトロニクスおよび半導体製造の分野で使用される強力で汎用性の高いツールです。CYMER ELS-5400は193nmの波長を作り出すことができる脈打ったキセノン塩素レーザーです。この波長は、さまざまな半導体材料のエッチングやパターニング、半導体デバイスのリソグラフィやパターニング工程で使用されるフォトマスクの修復に最適です。ELS 5400は内部冷却装置が付いているガラスおよび金属の光学キャビティを使用してシステムが安全そして効率的に作動することを保障するために造られます。それは非常に速いレーザーの脈拍と高エネルギー密度を提供でき、直径の0.7µmから15µmまで及ぶ調節可能な点サイズがあります。ユーザーは、ニーズに応じてさまざまなパルス持続時間とピークエネルギーを選択することができます。ELS-5400には、イオンフローモニターと湿度インジケータが装備されており、ユニット内の温度制御を維持するだけでなく、マシンの状態を確認するための可視レーザーライトダイオードも備えています。CYMER ELS 5400は、低所有コストを維持しながら、ユーザーに高精度なアブレーション戦略を提供するように設計されています。そのユーザーフレンドリーな管理および制御ツールは、使いやすく、マイクロエレクトロニクスデバイスやコンポーネントの生産で一貫した結果を得ることができます。CYMER ELS-5400は、統合された自動および手動処理、整数制御ステージ、複数のレーザーヘッドのサポート、極めて精度の高いライン・オブ・サイトまたはアイアン・コア・ビーム配信のオプションなど、さまざまなオプションを提供します。最先端の光学設計・制御技術を駆使し、最大M 2<1。7のビーム品質値とターゲット領域全体で0。2%未満の均質性を備えた優れたビーム特性を提供します。全体として、ELS 5400は高精度および精密制御を必要とする半導体製造プロセスにとって不可欠なツールです。エネルギー、速度、スポットサイズ、調整可能なプログラミングの組み合わせにより、さまざまなアプリケーションに最適です。
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