中古 CYMER 5300 #34281 を販売中

CYMER 5300は、ディープUVリソグラフィ用途向けに特別に設計された頑丈で信頼性の高い5軸レーザー装置です。高繰り返し速度のディープウルトラバイオレット（DUV）レーザー光源を備え、193 nmの発光、6チャンネル光学センタリングシステム、精密設計機能、石英、石英フリー基板、ペリクルなど様々なマスク材料との互換性を備えています。5300は、高解像度イメージングと優れた画像再現性を実現するレーザベースのパターニング機能を提供します。高精度印刷技術のために、ユニットにはプリアライメントステージと高度なクローズドループビーム位置決め制御が装備されています。また、非常に動的な多軸ビーム指向マシンと高速スキャン機能を備えています。このツールは、パターニングプロセスの精度、再現性、および制御を保証するために、自動化されたアライメント、露出、およびエッジ浸食制御アセットで設計されています。さらに、CYMER 5300には、プロセス制御と画質を確保するための統合計測モデルが組み込まれています。さらに、この装置は、ファイバーレベルでも、安定した印刷性能と最高のパターン忠実度を実現する真のダイナミックビーム偏向を提供します。このシステムは、5 kHz、パルス幅変調、Qスイッチレーザー、および相互接続光学を備えたビーム配信ユニットからなる、定格合計電力が20ワットを超えるレーザー光源を使用しています。このソースは、パターニングプロセスを照らし、制御し、幅広い露光角度、高スループット、大小の開口部、および統合されたキャリブレーション機能を提供します。5300には直感的でユーザーフレンドリーなユーザーインターフェイスも含まれており、柔軟な操作設定と効率的なインターロック管理が可能です。精密機械的性能と洗練されたデジタル制御システムを組み合わせ、信頼性と再現性の高いエレクトロニクスリソグラフィ結果を提供します。高容量・高精度IC生産に最適です。