中古 SUPERIOR AUTOMATION Wet bench #293597596 を販売中
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ID: 293597596
ウェーハサイズ: 8"
System, 8"
Tank 1:
Mega-sonic clean tank:
(25) Wafer process cassettes
Tank construction: Heated, Recirculating, Quartz
Four sided cascade overflow
Inlet / Outlet Connections, ½”
Connection: Flare
Tank inner dimension: 12” W x 12” L x 12” D
Mega-sonic system: 750 kHz, 600 W
Operating Temperature: 70°C
Manual lid: PTFE / Teflon
Tank 2 and 3:
SC2 Clean tank and Silicon etcher
(25) Wafer process cassettes
Tank construction: Recirculating PFA / Teflon
Four sided cascade overflow
Inlet / Outlet connections, ½”
Connection: Flare
Tank inner dimensions: 12” W x 12” L x 12” D
Manual lid: PTFE / Teflon
Tank 4 and 5:
HF and DHF:
(25) Wafer process cassettes
Four sided cascade overflow
Tank construction: Recirculating natural polypropylene
Inlet / Outlet connections, ½”
Connection: Flare
Tank I.D: 12” W x 12” L x 12” D
Manual lid: Natural polypropylene
Tank 6,7 and 8:
1, 2 and 3 QDR Rinse tank:
(25) Wafer process cassettes
Four sided cascade overflow
Tank construction: Natural polypropylene
DIW Adjustable: Top spray nozzle
DIW Bottom: Fill cascade overflow
Quick dump valve
Tank 9 and 10:
4 and 5 QDR Rinse tank:
(25) Wafer cassettes
Tank construction: Natural polypropylene
Four sided cascade overflow
DIW Adjustable: Top spray nozzle
DIW Bottom: Fill cascade overflow
Quick dump valve
QDR controller: Microprocessor
Integrated solenoid valve
Fill spray and dump timer.
優秀なオートメーションのぬれたベンチは層流および発煙のフードのタイプです。この装置は通常、実験室の設定に配置され、重要な処理作業を行うための汚染のない領域を提供するように設計されています。空気中の微粒子や噴煙がワークスペースに侵入するのを防ぎ、層流のある領域を提供します。つまり、環境中の空気は他の実験室よりも低い圧力で保たれ、環境から粒子を取り除くことができます。ウェットベンチは、汚染を低減し、清潔で安全なワークスペースを提供するように設計された封じられた機器です。このシステムは、堅牢で耐久性のある環境を提供するステンレス鋼で構成されており、通常、体積流量制御、二重スキンウォールユニット、UV蛍光灯、および正と負の圧力システムを含むように構築されています。これにより、環境中の空気圧も確保し、ワークスペースへの外部汚染の可能性を最小限に抑えます。SUPERIOR AUTOMATIONウェットベンチの主成分は、自己完結型の層流作業エリアで、ほこり、汚れ、空気中の微粒子、発煙などの外部汚染から解放されています。これは、外部の空気源から空気が循環し、ウェットベンチの内部を流れる機械の空気循環ツールによって可能になり、フィルタリングされて外部環境に排出されます。これは、クリーンルームプロセスにとって重要な連続的な層流を維持するのに役立ちます。優れた自動化ウェットベンチは、内部の空気がラボの残りの部分よりも低い圧力で保たれるように設計されています。このスタイルのフードは、より高い空気圧に置き換えることができないため、粒子を環境から引き離すことができます。また、二重スキン壁アセットを使用して設計されており、空気の流れを改善し、騒音レベルを低減し、熱損失を最小限に抑えることができます。このウェットベンチに組み込まれた照明システムは、直接および間接の両方のUV蛍光灯を使用して機能するように設計されており、あらゆる精密作業やクリーンルームプロセスに必要な安全で均一で一貫した光を提供します。全体的に、SUPERIOR AUTOMATIONウェットベンチの特徴は、実験室のタスクやプロセスに安全で汚染のない環境を提供します。それは空気圧が環境の外のより低いレベルに保たれることを保障し、また外面の汚染を減らすのを助ける二重皮をむいた壁モデルがあります。照明装置は、均一で安全で一貫した光源を提供するように設計されており、層流は、空気中の微粒子や発煙がワークスペースに入らないことを保証します。これは、実験室で実施する必要のある精度と汚染のない作業に不可欠です。
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