中古 PHILIPS / FEI Vion PFIB #293829450 を販売中

FEI Vion PFIB（プラズマフォーカスイオンビーム）は、ナノテクノロジーと極端な紫外線（EUV）リソグラフィの研究のためにサンプルをエッチングして形成するために使用されるイオンミリングシステムの一種です。それは実験室および産業設定の高精度のサンプル製作のために設計されています。システムが生成するイオンビームは、電気電位やガス電位、ビーム電流などのいくつかのパラメータによって制御される直流（DC）ビームです。Vion PFIBには、RFプラズマ源とイオンガンという2つの異なるイオンビーム源が装備されています。高電流でエッチングする場合はRFプラズマ源、低電流ではイオンガンを使用する場合は高解像度イメージングを行います。RFプラズマソースは、ユーザーが設定した対応するパラメータに到達するとアクティブになります。イオンビームを使用するプロセスは2段階で行われます。第1段階は試料材料のイオン砲撃、第2段階は試料材料のその後のエッチングです。イオンビームは、サンプル表面を爆撃し、材料を貫通させるために使用され、その結果、露出した領域のスパッタリングと材料の特定の深さへのエッチングが行われます。エッチング速度は、ビームのエネルギー、ビームのフラックス、および砲撃の持続時間を調整することによって制御することができます。FEI Vion PFIBは、ナノテクノロジー構造やナノインプリントリソグラフィなど、さまざまな用途で使用できます。ナノテクノロジー構造は、Vion PFIBを使用して高い精度と精度でモデリングおよびエッチングすることができます。ナノインプリントリソグラフィは、サンプル表面にすでに単相フィーチャー層を使用して、ナノスケール上の特徴を導入するためにも使用できます。これにより、サンプル上の所定の位置にナノスケール上の機能を導入することができます。全体として、FEI Vion PFIBは、ナノテクノロジーおよび極端な紫外リソグラフィに使用される高度なイオンミリングシステムであり、非常に精密で正確な画像を生成することができます。プラズマ源とイオン銃という2つの必須イオン源を備えており、制御された環境で材料をエッチングまたはモデル化することができます。Vion PFIBは、ナノテクノロジーと極端な紫外リソグラフィの分野での様々な応用により、ナノスケール上の構造と特徴を作成するための信頼できるツールを業界に提供しています。