中古 PHILIPS / FEI Strata 200xp #293667899 を販売中
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ID: 293667899
Focused Ion Beam (FIB) system
Ga ion beam
Accelerating energy range: 5 to 30 keV
Beam current range: 1 pA - 11.5 nA
Gas Injection Systems (GIS): PT Deposition, selective carbon milling
Resolution in milling and patterning: < 50 nm.
PHILIPS/FEI Strata 200xpは、サンプルのナノスケール操作を目的とした焦点イオンビーム(FIB)フライス装置です。このシステムは、優れた表面処理能力と、繊細な表面のパターニングと加工を提供します。その高度なイメージングおよび解析システムにより、サンプルパラメータとナノスケールのプロセスを正確に制御できます。FEI Strata 200xpは、波束イオンビームカラムにガリウム液体金属イオン源を使用しています。それは20から45 nmまで点サイズの3つのkeVビーム電圧まで適用できます。そのフライス加工速度は非常に調節可能であり、パルスあたり0。5 nmから14,000 nm/s以上の範囲に及ぶことができます。ユニットの定義と深さ制御は、独自の速度変調モードを使用して実現されます。また、伝送電子顕微鏡を用いて10nm以下の解像度で最大500nmの電子ビーム深度を撮影することも可能です。PHILIPS Strata 200xpは、金属、有機材料、半導体、MEMSデバイスなど、さまざまな材料のパターニング、スライス、加工が可能です。プラズマエッチング、表面改質、マスクレスリソグラフィなど、幅広いプロセス機能を提供します。また、アライメントマシン、ターゲットスパッタリング、統合された自動サンプル転送ツールなどの機能も備えています。さらに、このアセットには、ユーザーがサンプル操作とナノスケール処理を監視できる、高度なイメージングおよび分析システムが含まれています。これらのシステムは、ナノスケール上の材料を分析するための直感的で使いやすいアプローチを提供します。イメージングおよび解析システムには、走査型電子顕微鏡、原子力顕微鏡、電子後方散乱回折、ナノスケール分解能3Dイメージングなどがあります。Strata 200xpは、材料のナノスケール操作に最適な汎用性の高いイメージングおよびミリングモデルです。優れた解像度、深度、速度制御だけでなく、さまざまな分析機能を提供します。高度な処理とイメージング機能を備えたStrata 200xは、ナノスケールの精密製造に最適です。
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