中古 PHILIPS / FEI Nova NanoLab 600 #9357430 を販売中

PHILIPS/FEI Nova NanoLab 600は、ナノスケールレベルでの精密な材料除去とイメージングに優れたイオンフライス加工装置です。最先端のイオンビーム技術と高解像度イメージング機能を組み合わせることで、材料科学、エレクトロニクス、半導体製造など幅広い分野での応用が可能となります。FEI Nova NanoLab 600は、試料表面から材料を選択的に除去するために、通常はガリウムイオンである荷電粒子の集中ビームを生成することができる洗練されたイオン源を備えています。イオンビームは、エネルギー、電流、スポットサイズで正確に制御することができ、基礎構造を損なうことなく、正確で制御された材料の除去を可能にします。PHILIPS Nova NanoLab 600は、透過電子顕微鏡（TEM）解析のための精密な特徴、エッチングパターン、薄化試料を作成するための貴重なツールです。Nova NanoLab 600の主な特徴の1つは、イオンミリングプロセスを導き、サンプル表面を分析するために不可欠な高解像度イメージング機能です。このシステムには、サンプル表面の詳細な画像をサブナノメートル分解能でキャプチャできる高度な走査電子顕微鏡（SEM）検出器が装備されています。これらの画像は、ミリングプロセスに関するリアルタイムのフィードバックを提供し、ユーザーは材料の除去を監視し、ミリングパラメータを調整し、プロセスを正確に制御することができます。イオンミリングおよびイメージング機能に加えて、PHILIPS/FEI Nova NanoLab 600は、パフォーマンスと柔軟性を向上させるためのさまざまな高度な機能とアクセサリを提供します。様々なサイズや形状のサンプルに対応できる汎用性の高いサンプルステージを備えており、カスタマイズされたサンプル調製と分析が可能です。また、自動データ取得、画像処理、3D再構築のためのソフトウェアツールも含まれており、効率的なワークフローとデータ分析を可能にします。FEI Nova NanoLab 600は、基礎研究から産業品質管理まで、幅広い分野で活躍する研究者や科学者のニーズを満たすように設計されています。パワフルなイオンビーム機能と高解像度イメージング技術により、先端材料の構造特性関係の研究、ナノ構造表面の特性評価、サブミクロン精度のナノスケール装置の製造に最適です。全体として、PHILIPS Nova NanoLab 600は、最先端の技術と高度なイメージング機能を組み合わせた汎用性と強力なイオンフライス盤で、ナノスケールレベルで幅広いアプリケーションを実現します。Nova NanoLab 600は、材料の精密除去、高解像度イメージング、高度な機能を備えており、ナノスケールで材料の特性と挙動を探求する研究者や科学者にとって貴重なツールです。