中古 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9410810 を販売中
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販売された
ID: 9410810
Dual beam Focused Ion Beam (FIB) system
OXFORD INSTRUMENTS X-Max Silicon Drift Detectors (SDD): 80 mm
OMNIPROBE 200
Retractable STEM detector
GIS Units: C, Pt, SCE
Fast beam blanker (For E-beam lithography)
Accessories included.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600は、硬質および軟質材料の精密成形およびパターニングを可能にするように設計されたイオンフライス加工装置です。その高度なナノテクノロジー機能により、正確な製造要件を満たすために材料を切断して変更することができます。Heliosシステムは、高圧イオンフライス加工や反応イオンフライス加工など、さまざまな切削技術を提供し、半導体製造、ナノテクノロジー、精密工学などの幅広い用途を可能にします。Helios NanoLabは2つの主要な部分で構成されています。最初のセクションは、不活性ガスの源に接続されている真空チャンバーです。その後、このガスはイオン化され、望ましい形状または構造を作成するために表面材料を粉砕するために使用されます。2番目の部分はサンプルホルダーで、フライス加工中にサンプルを回転させて含有することができます。不活性ガスの圧力と温度は、材料出力の精度と品質を確保するために調整されます。NanoLab 600は、最大1000nm/sのフライス加工速度を提供します。高度な材料蒸着ユニットにより、ナノメートルレベルでの正確なエッチングとパターニングが可能であり、最小限の深さ制限はありません。高機能なコントロールにより、従来よりも高い精度と速度で部品を設計および製造することができます。FEI Helios NanoLab 600には強力な分析とデータ管理機能が搭載されており、素材の特性や性能、処理後の結果を迅速かつ効率的に確認できます。さまざまな文書化解析ツールを使用すると、収集したデータを使用してプロセスの設計と出力を最適化できます。NanoLab 600は、幅広い用途に適した汎用性の高いマシンです。精密部品の高精度製造、ナノ構造材料のエッチング、成膜、表面仕上げに使用できます。このツールは、ソフトマター、ハードマター、金属、セラミック、半導体など、さまざまな材料に使用できます。プロトタイピングや微細加工のアプリケーションにも適しています。PHILIPS HELIOS NANOLAB 600は、ユーザーが正確な仕様に素早く正確に形状、パターン、エンジニア材料を作成できる強力な資産です。ナノテクノロジーの高度な機能により、ユーザーはナノメートルレベルで複雑な構造を作成することができ、高い精度と再現性を備えています。
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