中古 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9222516 を販売中

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ID: 9222516
ヴィンテージ: 2010
Dualbeam Focused Ion Beam (FIB) system Workstation: Nano-prototyping Nano-machining Nano-analysis Advanced TEM sample preparation Electron optics: Resolution: 0.9 nm @ 15 kV & 1.4 nm @ 1 kV Detection: In-lens SE & BSE Ion optics: Sidewinder™ field emission focused ion beam optics With liquid gallium ion emitter Resolution: 5.0 nm @ 30 kV Detection: CDEM Detector Pattern: Imaging and patterning With end-point detection through real-time monitor AutoFIB Platinum deposition Selective carbon mill Enhanced etch TEM Sample preparation AutoTEM G2 Micromanipulator: OMNIPROBE Autoprobe 200.2 Gas Injection system (GIS): (2) Charged ports Materials in charged ports: Platinum, Gold Uncharged port (5) Open ports for new sources Tip life time: EB 2-3 years IB 3 months Diagnostics: EDS& EBSD Pegasus package, EDAX 2010 vintage.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600は、ナノスケールのフライス加工と研磨に優れた精度と精度を提供するために設計された最先端のイオン製粉装置です。この高度な技術は、加速されたイオンを使用して材料を正確かつ効率的にスパッタまたはエッチングするという概念に基づいています。最新のナノおよびマイクロスケール加工アプリケーションに最適です。FEI Helios NanoLab 600システムには、いくつかの主要コンポーネントが含まれています。IPD (Interactive Process Diagnostics)ユニットは、熟練したオペレータに初期イオンソースパラメータに関する情報を提供し、切断速度、チャンバー圧力、およびその他の関連する運用データを決定するために使用できます。また、電界放射走査型電子顕微鏡(FE-SEM)を搭載しており、イオンによる小回路や構造物のイメージングが可能です。PHILIPS HELIOS NANOLAB 600は、静止イオンビーム源を備えた独自の多極電磁クラスターソースを備えており、プロセス設計時に高い柔軟性を発揮します。また、低圧動作チャンバーを備えており、エッチングやミル加工の材料表面を破壊することなくイオンが自由に移動できる大気環境を提供します。このツールは、最新のイオン光学技術とイオン操作技術で設計されており、材料の切断とエッチング時に高い精度と制御が得られます。NanoLab 600には、幅広い安全機能が搭載されています。これには、モデルの動作中にオペレータへの放射線被ばくの量を減らすパーソナルシールドアセットが含まれます。また、インタラクティブなグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)も備えており、オペレータはリモート端末またはコンピュータからプロセスを制御できます。これにより、システムが安全かつ効率的に動作することが保証されます。結論として、HELIOS NANOLAB 600は、ナノスケールのフライス加工と研磨を、卓越した精度と精度で提供する高度なイオンフライス加工ユニットです。幅広い安全機能を備え、静止イオンビーム源を備えた独自の多極電磁クラスターソースを備えており、プロセス設計時に高い柔軟性を発揮します。この機械は最も新しいナノおよびマイクロスケールの機械化の適用のための理想的な選択です。
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