中古 PHILIPS / FEI DB 830 #293812504 を販売中

PHILIPS/FEI DB 830イオンフライス盤は、材料の精密除去と表面分析に使用される材料科学および顕微鏡で使用される洗練されたツールです。イオンミリングは、高エネルギーイオンでサンプルを爆撃して、制御された正確な方法で材料を除去するプロセスです。FEI DB 830システムは、断面解析、材料の薄型化、表面改質など、さまざまな用途に高品質のイオンミリングを提供するように設計されています。PHILIPS DB830ユニットのイオン源は、抽出電極と加速電圧を使用して高エネルギーに加速される、通常アルゴンまたはガリウムイオンのビームを生成します。これらの高エネルギーイオンは、試料表面に向けられ、そこで材料と相互作用し、スパッタリングとエッチングを引き起こします。イオンビームは、ビーム電流、エネルギー、および発生角度の観点から制御して、所望のフライス加工結果を達成することができます。PHILIPS/FEI DB830機械の主な特徴の1つは、サンプル表面全体に精密で均一なイオンミリングを提供する能力です。これは、材料の除去と一貫した結果を保証する高度なビームスキャンおよびビームシェーピング技術によって達成されます。このツールはまた、さまざまなサンプル材料や用途に最適化できるさまざまなフライスパラメータを提供しており、研究者はフライス加工プロセスを特定のニーズに合わせて調整することができます。DB830資産には、効率的なイオンミリングに不可欠なサンプル周辺の低圧環境を作り出すための高度な真空システムが装備されています。高い真空条件により、フライス加工中の汚染や不要な化学反応を防ぎ、クリーンで正確な結果を保証します。また、イオンビーム動作に伴う潜在的な危険からユーザーと機器を保護するための安全メカニズムが内蔵されています。イオンミリングに加えて、DB 830装置は、イオンビーム蒸着、イオンビームリソグラフィ、およびその他の表面改質技術に使用することができます。サンプルハンドリングと制御ソフトウェアの柔軟性を提供し、幅広い実験や解析を容易に実行できます。また、走査型電子顕微鏡（SEM）やエネルギー分散型X線分光法（EDS）などの様々な分析手法にも対応し、総合的なサンプル特性評価が可能です。全体的に、FEI DB830イオンフライス盤は、研究および産業環境における材料分析および表面改質のための汎用性と強力なツールです。高精度、信頼性、高度な機能により、材料科学、ナノテクノロジー、半導体研究などの分野で活躍する科学者やエンジニアには欠かせないツールとなっています。