中古 OXFORD Ionfab 300 Plus #293815692 を販売中
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ID: 293815692
ウェーハサイズ: 6"
Ion Beam Etching (IBE) System, 6"
Materials: Au, Cr, Ta, Al, Fe, Co, Boron and Silicon
Process: IBE
Gas supply system including MFCs
(2) AR Gas lines
Ion source diameter: 35 cm
Single wafer capability
Load lock
Auto loader
Tiltable substrate holder angle: −90° to +35° (0° = vertical, 0° incidence angle)
Wafer backside cooling
No WLOM
Endpoint monitoring
Dry scroll pump
Small turbo molecular pump
Rotary vane pump
Turbo molecular pump
No chiller
Operating system: Windows XP
Power supply: 3000 W.
OXFORD Ionfab 300 Plusは、表面平面化、ナノパッタニング、金属エッチングなどの高精度アプリケーションで使用するために設計されたイオンフライス盤です。高周波、高エネルギーのデュアルビームイオン源を搭載し、化学的および物理的なスパッタリングを提供します。また、クリーンな運転と長期的な信頼性を実現する多段ロータリーポンプや濾過システムも搭載しています。Ionfab 300 Plusは、精密なガス/ターゲット構成のプログラマビリティ、高解像度カラーカメラ、および手動およびコンピュータ制御の両方のオプションを備えた包括的な制御機を提供する6ターゲットガス射出ユニットを備えています。高周波デュアルビームイオンソースは、エッチング速度、蒸着速度、プロセス再現性など、幅広いスパッタプロセスパラメータを実現します。イオンビームは、表面残留物を最小限に抑え、表面効果を最小限に抑えた優れた表面仕上げ品質を提供します。OXFORD Ionfab 300 Plusには、スパッタプロセスの正確な制御と監視が可能な高度な制御ツールが装備されています。このアセットにより、基板温度、RFジェネレータのパワーレベル、ビームアライメント、圧力差など、さまざまなプロセスパラメータをプログラムできます。自動化されたモデルは、手動で介入する複雑なプロセスレシピにも使用できます。安全性と環境に配慮したOxonfab 300 Plusは、低放射源、最小ノイズ、低振動レベルで設計されています。また、欧州連合の健康と安全の要件を満たすために認定されており、RoHS指令に準拠しています。さらに、この機器は3年間の保証で保護されており、30°C〜95°Cの温度範囲で動作することが評価されています。全体として、Ionfab 300 Plusは、精密な制御と再現性で完璧な結果を生み出すことができる業界をリードするイオンフライス盤システムです。表面平面化、ナノパッタニング、金属エッチングなどの高精度アプリケーションに対応するように設計されています。また、安全衛生規制にも準拠しており、3年間の保証でさらに安心してご利用いただけます。
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