中古 NANO-MASTER NIE 4000 #9182949 を販売中
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ID: 9182949
ヴィンテージ: 2016
Ion beam etching system, 14.5"
Physical etching with accelerating Ar ions
Patterned with thick resist for masking
Energetic ion flux during etching overheats:
Substrate
Resist
Substrate temperature: <50°C
SS Cube ion beam chamber
DC Ion gun: 12 cm, 1000 V, 500 mA
DC Motor driven: SS Shutters
Ion beam neutralizer
Ar MFC
Chilled water cooled: Substrate platen, 6"
Wafer rotation: 3-10 RPM
Vacuum stepper motor
Wafer tilt with stepper motor
Pumped rotational seal
Manual / Automatic wafer: Load / Unload
Typical etch rates:
Cu: 20 nm/min
Si: 50 nm/min
Etch uniformity: +/- 5% over 4" area
Turbo pump:
Base pressure with 500 1/sec:
5 x 10-6 Torr < 20 minutes < 2 x 10-7 Torr
Base pressure with 1000 1/sec: 8 x 10-8 Torr
Protect etched metal surfaces from oxidation
Recipe driven
Password protected
Safety interlocked
Missing part: Foreline pump
2016 vintage.
NANO-MASTER NIE 4000は、高精度データと高い表面フラックスレートを提供するように設計されたイオンフライス加工装置です。NIE 4000は、フォーカスイオンビーム(FIB)を使用して、さまざまな基板からナノサイズの構造と材料を作成します。このマシンは、さまざまなサンプルサイズに対応できる2つの統合チャンバーを含む、高品質でコンパクトな設計を特徴としています。NANO-MASTER NIE 4000システムは、液体窒素冷却ユニット、コンピュータ制御動作ユニット、イオンビームを作成し集中するチャンバーで構成されています。マシンの中心には、FIBが生成されるイオン源があります。この高精度イオンビームは、金属や薄膜基板など様々な材料から超微細なナノ構造を作り出すことができます。完全に自動化されたガスコンディショニングユニットは、サンプルから残留汚染物質を除去することにより、最高品質のデータを提供するのに役立ちます。NIE 4000は、イオンビームエネルギー、ビーム電流、フォーカスを正確に制御できます。これにより、正確な精度で汎用性の高い製造が可能になります。NANO-MASTER NIE 4000は、特殊なソフトウェアパッケージにより、イメージング、精密深度プロファイリング、パターニングにも使用できます。さらに、ユーザーインターフェイスは監視、自動化、およびユーザーコントロールを可能にします。これにより、ユーザー固有の製造ニーズに合わせてプログラムを簡単にカスタマイズできます。NIE 4000の集積静電レンズは、より大きな作動距離を提供し、イオン浸透を低減します。さらに、その大きなサンプルステージにより、より多くのサンプルを1回の実行で処理することができます。その強化されたコンピュータ制御操作ツールは、ナノメートルスケールで正確かつ一貫したデータを保証します。NANO-MASTER NIE 4000は、精密ナノマテリアルの製造に最適な資産です。その高度なFIB技術と高精度エンジニアリングは、優れた性能と精度を提供します。NIE 4000はカスタマイズ、精度、スピードを向上させ、高度なイオンミリングソリューションをお探しのお客様に最適です。
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