中古 IONTECH IBD #293619172 を販売中

IONTECH IBDは、製造、プロトタイピング、研究用に特別に設計された高解像度イオンフライス盤です。高温プラズマを利用して、ヒ素ガリウム（GaAs）やポリイミド基板などの材料をエッチングします。IBDは、マイクロおよびナノ電気機械システム（MEMS/NEMS）を含む薄膜デバイス製造に特に適しています。このシステムは、スパッタリングとイオンミリングチャンバーを使用しており、20ミリリットルのベースプレッシャーにポンピングダウンすることができます。フライス加工には、アルゴンガスの高エネルギーイオンビームを使用し、加工する材料の表面を爆撃します。同時に、エッチングの深さを制御するためにDCバイアス電圧が印加されます。イオンが材料を貫通すると、最上層が排出され、ピット、トレンチ、およびサイズがミクロンからナノメートルまでの範囲の構造が形成されます。IONTECH IBDは、調整可能な微調整レンズを備えており、ビーム電流、電圧、パルス持続時間などのビームパラメータを正確に操作できます。従って、ユーザーは容易に構造の必要なサイズそして深さを作成するために製粉プロセスを調節できます。温度制御されたベローズユニットと統合されたクーラントバイパスを使用して、ミリングヘッドを簡単に材料表面に高精度で移動および配置することができます。これにより、基板の損傷を防ぎながら、高解像度と再現性の両方が保証されます。さらに、IBDには高度な測定およびデータロギング機能が搭載されており、材料除去率やイオンエネルギーレベルなどの重要なフライス加工パラメータを監視できます。このデータを使用してフライス加工プロセスを分析し、プロセスの詳細な洞察を提供し、ユーザーが望ましい結果を得るためにマシンを最適化することができます。最後に、IONTECH IBDは、複数の基板をサポートし、ツールの汚染を低減する多層フライス盤を備えているため、高精度なデバイスの連続製造が可能です。また、OS-3オペレーティングソフトウェアは、毎日の操作タスクの多くを自動化します。要約すると、IBDは、製造、プロトタイピング、および研究タスクのために設計された高度なイオンミリングツールです。高解像度機能、調整可能なビームパラメータ、データロギング機能により、正確な結果と効率的な操作が保証されます。