中古 FEI Vectra 986+ #9192666 を販売中

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製造業者
FEI
モデル
Vectra 986+
ID: 9192666
ヴィンテージ: 2003
Focused ion beam system Upgraded to IET on 2006 Operating systems: Unix / Linux Ion mill column / Next gen column: 5nm Laser interferometer stage Gases: Chlorine Xenon diflouride Siloxane (TMCTS) or (Tetramethylcyclotetrasiloxane) Oxygen H2O Tungsten IR Camera included 2003 vintage.
FEI Vectra 986+は、先進的な材料微細構造特性評価用に設計された最先端のイオンフライス加工装置です。サンプル材料から微細な地表層を削り出し、望ましい地表面の微細構造物を露出させ、さらに詳細な分析を行うことができるフォーカス・イオン・ビーム・コラムを採用しています。Vectra 986+イオンフライス加工システムは、40 keVのDualBeamTMガリウム(Ga+)砲撃源を使用しており、非常に高精度でサンプル損傷を最小限に抑えることができます。強力なX-MaxTM光学顕微鏡を搭載し、解像度と画像処理能力を高めています。さらに、オプションのアクセサリにより、シミュレーション、3Dイメージング、ナノファブリケーション、および分析アプリケーション用に機械を拡張できます。FEI Vectra 986+は、手動で動作する6位置サンプルローディングツールから自動40位置サンプルローディングステーションまで、サンプルマウント用のさまざまなサンプルハンドリングプラットフォームを提供します。これにより、サブサーフェスサンプルの準備と複雑な3D構造のナノファブリケーションをすばやく切り替えることができます。Vectra 986+には、プロセス制御統合ソフトウェアパッケージがあり、ユーザーはアセットで使用される加速電圧とビーム電流を含むイオンミリングプロセスのさまざまなパラメータを管理し、添加/製造プロセスのための複雑な軌道を生成することができます。さらに、このモデルは、クリーンで安全な作業環境を確保するために、あらゆる空中汚染物質に対する環境隔離と保護を提供します。この装置は、サンプル形態の2Dモデルと3Dモデルの両方をサポートしているため、システムは非常に汎用性が高く効率的です。さらに、ユニットの高度な画像処理および分析機能を使用して、サブサーフェス材料の存在を検出し、その寸法、光学特性、および微細構造特性の詳細な測定を行うことができます。FEI Vectra 986+の高性能と汎用性により、さまざまな研究および産業用途に最適なツールです。半導体、金属、ポリマー、繊維の材料特性評価や、微細・ナノファブリケーション、ナノアナリティクスに特に役立ちます。
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