中古 FEI / MICRION 9500 EX #293641374 を販売中
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ID: 293641374
Focused Ion Beam (FIB) system
Stage type: 200 mm x 200 mm
Loadlock type
IBM RISC System, 6000 43P
140 Computer/AIX 4.1.5
MCP Detector
I-Gun column type: 5 nm
Beam current: 3 pA - 931 pA (50 kV)
Depo system:
Tungsten
TMCTS
Gases: O2, H2O, Cl2/Br2, XeF2
Vacuum pump:
Turbo molecular pump
(2) Mechanical pumps
(2) Ion getter pumps.
FEI/MICRION 9500 EXは、サンプル調製用に設計された先進的なイオンフライス加工装置です。様々な基材に高精度な表面平面化を提供することに特化しています。スパッタリング、スパッタエッチング、拡張イオンミリング、その他の材料除去技術などのプロセス用途に適しています。FEI 9500 EXは、電動ステージと可変AC/DCイオンソースを可能にするデジタルコンピュータ制御の6軸リニアモータ駆動システムを使用しています。デュアルソースAC/DCユニットは、イオンミリングアプリケーションに最適化された信頼性の高いイオンビームを作成するために使用されます。この機械はまたエネルギー効率が良い操作および適応的なビーム変化および公称イオン源のフィラメント操作を提供する高度のイオン源の設計を特色にします。MICRION 9500 EXには、24ポジションサンプラーカセット、デジタルアングルゴニオメーター、高速シャッタリング、サンプル回転ステージが含まれています。9500 EXには、イオンミリングプロセスのリアルタイム表示を実現する高解像度光学ディスプレイツールが搭載されています。このアセットは、均一な平面化、粒子配置、および粒子蓄積のための基板表面を監視することができます。FEI/MICRION 9500 EXは、高解像度の線量制御モデルと、特定のプロセスに合わせてカスタマイズ可能な幅広いスキャンパラメータを備えています。ソフトウェアおよびハードウェアコンポーネントは、イオンミリングプロセスを制御し、幅広い材料除去技術のパフォーマンスを最適化するための包括的なアプローチを提供します。FEI 9500 EXは、迅速で高精度なサンプルプランアライゼーションを提供するように設計されており、さまざまな自動およびハンズオン動作機能を備えています。また、統合冷却システム、遠隔監視機能、ワークフローユニット、ユーザーフレンドリーなインターフェイスなど、さまざまな機器アクセサリと互換性があります。さらに、SIMS解析、元素組成解析、X線回折解析などの高度な分析能力も備えています。9500 EXは、市場で入手可能な最も先進的なイオンミリングシステムの1つです。さまざまな基板材料上に高精細な表面を作成するための信頼性と汎用性の高いツールであり、表面処理プロセスを最適化するための包括的な機能を提供します。
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