中古 FEI Helios NanoLab 660 #293817478 を販売中

FEI Helios NanoLab 660は、断面イメージングおよびナノスケール解析用に設計された業界トップクラスのイオンフライス装置で、サンプルをナノメートルスケールまで精密に薄くすることができます。独自のデュアルビームシステムは、スキャン電子顕微鏡（SEM/TEM）と透過電子顕微鏡（SEM/TEM）を組み合わせ、最大0。5ナノメートルのスケール解像度でサンプル表面を効果的にエッチングおよび画像化します。このユニットは、焦点を当てたイオンビーム（FIB）を使用して、高荷重イオンのストリームを持つ薄いサンプルにします。生成されたイオンは、サンプルから除去する材料に向けられ、ビームの軌道とエネルギーを制御して所望のエッチング深度を達成します。これにより、材料を数ナノメートルまで正確に除去することができます。Helios NanoLab 660には、最先端のリモートイメージングマシンが搭載されており、ミリング中にサンプルをほぼリアルタイムで観察できます。FEI Helios NanoLab 660は、ビジュアルツールを内蔵しており、エッチング中にサンプルの様々な角度や拡大を撮影することができます。また、プロセス中に撮影した画像を保存し、将来の参照用に保存することもできます。アセットの自動ミリングソフトウェアも同様に、さまざまなサンプル材料のパラメータ設定と監視設定を可能にします。これには、希望するエッチング速度、深さ、ガスの種類、および温度を設定することが含まれます。また、デュアルソースのセットアップにより、低エネルギーイオンビームと高エネルギービームを切り替えることができ、エッチングプロセスのより効率的で均一で正確な制御が可能です。Helios NanoLab 660モデルは、商用および学術研究所の両方で使用するために設計されており、さまざまな用途とサンプルを使用してイメージングと分析を可能にします。これには、故障解析、欠陥調査、腐食マッピング、3Dイメージングなどの特性評価が含まれます。FEI Helios NanoLab 660は、ユーザーフレンドリーで高性能な機能を手頃な価格で設計されています。これは、ナノスケールのイメージングと分析を行うための信頼性の高い方法を探している任意のサイズの研究室に魅力的になります。最先端のデュアルビーム機器と高度なイメージング機能を備えたHelios NanoLab 660は、高解像度のイメージングおよびサンプル準備作業に最適です。