中古 FEI Helios NanoLab 460F1 #293826600 を販売中

FEI Helios NanoLab 460F1イオンミリング装置は、ナノスケールのサンプル調製と高度な超低電圧イオンビーム処理の両方に対応する強力な精密ツールです。Heliosは、より広範囲のビームエネルギーとより高速な処理時間のために設計された新しい高強度、低電圧イオン源を備えており、より正確で正確なサンプル調製を可能にします。このシステムは、高精度イオンナノリソグラフィおよび断面ナノトモグラフィ用途に最適です。ヘリオスは、他のイオンミリングシステムよりも高いビーム電流と幅広いビームエネルギーを可能にする高度なフェリミクロンイオン源を内蔵しています。このソースは、高温イオン源グリッドを備えた中空カソード放電を利用しており、動作温度を下げ、安定性を向上させます。ソースには、素早く簡単に材料を選択できる10ステーションのろ過ユニットも含まれています。ソースはアーティファクトを最小限に抑え、結果の高精度を確保するように設計されています。ヘリオスは、高速かつ直感的な操作を可能にする洗練されたビームコントロールユニットを介して制御されます。このユニットにより、オペレータはビーム電流、ビームスポットサイズ、ビーム発散を調整できます。また、サンプル位置決めを自動化し、イオンビームに対してサンプルを正確に位置決めする6軸モーションコントロールも備えています。ビームコントロールユニットには、高電圧モニタや、安全でない状態が検出されたときにアセットをシャットダウンする非常停止ツールなど、さまざまな安全機能が装備されています。ヘリオスには、2つのサンプル処理システムも装備されています。最初のモデルは、最大3回のミリング速度を可能にする手動制御を備えた高精度のサンプルステージです。また、サンプル表示光学とクーラントチャネルを備えており、フライス加工中のサンプル温度を安定させます。2つ目の装置は、最大24個のサンプルを保持し、さまざまな材料や形状に対応できる完全自動サンプルローダーです。ヘリオスも使いやすさのために設計されています。これには、直感的なソフトウェアと、プロセス全体を通じてユーザーを導くグラフィカルユーザーインターフェイスが含まれています。また、自動測定および調整アルゴリズムも備えており、結果が正確で再現性があることを保証します。このソフトウェアはまた、特定のアプリケーションに合わせて簡単にカスタマイズすることができます。Helios NanoLab 460F1イオンミリングシステムは、さまざまな用途に使用できる強力な精密工具です。高強度、低電圧イオン源、高度なビーム制御ユニット、2つの個別サンプルハンドリングシステム、および包括的なソフトウェアを組み合わせることで、比類のない精度と品質で正確かつ再現性のあるフライス加工結果を実現します。このユニットは、ナノテクノロジー、ナノファブリケーション、高度な超低電圧イオン処理に最適です。