中古 FEI Helios NanoLab 450S #9363521 を販売中
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ID: 9363521
Dual beam SEM System
Electron source: Schottky thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal, 1000 hours
STEM Resolution: 0.8 nm
SEM Resolution: Optimal WD
0.8 nm at 15 kV
0.8 nm at 2 kV
0.9 nm at 1 kV
1.5 nm at 200 V with beam decleration
Coincident WD
0.8 nm at 15 kV
0.9 nm at 5 kV
1.2 nm at 1 kV
Ion beam resolution at coincident point:
4.5 nm at 30 kV
2.5 nm at 30 kV
Stages:
Flipstage with in-situ STEM Detector
Omniprobe sample extractor
5 Axis all piezo motorized
100 mm XY motion
Loadlock maximum, 3"
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM
Grids
Whole wafers, 4"
Maximum sample size: 80 mm diameter
User interface:
Windows GUI with integrated
SEM
FIB
GIS
Simultaneous patterning
Imaging mode
GIS:
Carbon
Tungsten
Platinum
Accessories:
Chiller – NESLAB ThermoFlex 900
UPS
SCS10i Pump
Landing voltage:
SEM: 50 V - 30 kV
FIB: 500 V - 30 kV.
FEI Helios NanoLab 450Sは、高精度と高精度のユニークな組み合わせを提供するデュアルビームイオン加工装置です。このシステムは、高度なサンプル特性評価に適した超精密加工プロセスを提供します。デュアルビームユニットには、イオンビームカラム、インコラム走査型電子顕微鏡(SEM)ステージ、高解像度デジタルイメージングマシンが搭載されています。イオンビームコラムは、高電流、高エネルギー、高分解能イオンを特長としており、幅広いサンプル材料と深さを粉砕することができます。インコラムSEMステージは、高倍率およびサブミクロメートル分解能でサンプルのスキャンとイメージングを提供します。さらに、統合されたデジタルイメージングツールは、ステレオ光学画像や3D再構築など、サンプルのin-situおよびpost-millingイメージングの両方を提供します。Helios NanoLab 450Sには、幅広い包括的なサンプル環境と機能があります。ラスタリングと平行フライス加工のための空気圧サンプル回転ステージ、微細な手動操作の20xサンプルステージ、試料ローディング用の自動ポジションパレット、カスタムサンプルタイル用パレットを備えています。このアセットは、最大0。5 μ mの正確な位置分解能を提供し、大面積および深野フライス加工が可能です。また、可変圧力サンプルチャンバーを備えており、低加速電圧で高精度の低真空フライス加工が可能です。さらに、このモデルには、デュアルイオン源、高強度電子(HE)源、およびフライス加工ビーム偏向を最適化するための二重抽出電子銃が含まれています。FEI Helios NanoLab 450Sは、欠陥解析、MEMS、マイクロおよびナノ加工、およびSEM、 TEM、および金属加工のサンプル準備など、幅広い産業および学術アプリケーション向けに設計されています。この装置は、幅広い材料のさまざまなフライス加工作業に柔軟で信頼性の高いフライス加工ソリューションを提供します。表面損傷を最小限に抑え、信頼性の高い再現性と高い構造忠実度で高い生産性を実現するように設計されています。
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