中古 FEI Helios NanoLab 400S #293729607 を販売中

FEI Helios NanoLab 400Sは、さまざまなアプリケーションのニーズに対応するように設計された高度なイオンミリングシステムです。最先端の材料研究に最適化されており、省スペースと低エネルギーで高性能を提供します。Heliosは、表面のナノスケールの研究に最適です。その超高真空システムは、複雑な構造の正確なサンプリング、修正、分析を可能にし、その大きなチャンバー空間は、3次元イメージングにおけるサンプルのアクセシビリティを高めます。統合されたコントローラは、リアルタイムのプロセス制御、高精度、プロセスの再現性の向上、プロセスの最適化を可能にする簡単なデータを提供します。Helios NanoLab 400Sは、イオンビームミリング、不活性ガスエッチング、スパッタ洗浄、研磨技術のユニークな組み合わせを利用して、再現性を高め、運用コストを削減します。ヘリオスの800から4000uAまでの動的イオンビーム電流を利用して、イオンビームのエネルギーレベルは、粉砕される材料に基づいて1-25 keVに調整することができます。これは浅い製粉および重い材料の取り外しを可能にします。NanoLab 400Sは、独自のプラズマ制御システムと圧力センサーを備えており、エッチングの処理条件と希釈率を最適化します。Heliosの高度なフライス加工機能と連携して、Heliosの組み込みプロセスモニタ、自動化された圧力コントローラ、精密なサンプル操作と配置のための7軸マニピュレータ真空チャックなどの後加工が追加されています。この機能の組み合わせにより、データ取得の再現性と精度を向上させながら、ユーザーに優れた精度を提供します。さらに、ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスにより、フライス加工とエッチング処理を迅速に最適化し、傾斜角度、イオン強度、スパッタレートなどの特殊な機能にアクセスできます。FEI Helios NanoLab 400Sは、ナノスケールの解像度で複雑な構造を修正および分析する能力をユーザーに提供する、先端材料研究のための貴重なツールです。その強力なフライス加工機能と後加工の追加により、ユーザーは簡単に正確な結果を得ることができます。これらの機能を組み合わせることで、Helios NanoLab 400Sナノスケールの研究において優れた選択肢となります。