中古 FEI Helios NanoLab 1200HP #9250534 を販売中
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販売された
ID: 9250534
ウェーハサイズ: 12"
Focused Ion Beam (FIB) system, 12"
Electron column:
Elster column, field emission gun
Beam voltage:
SEM: 350 V - 30 kV
Ion column:
Tomahawk, Ga liquid metal
1,500 Hours
FIB: 500 V - 30 kV
FIB Current: 1 pA - 65 Na
Image resolution:
SEM:
Visual resolution < 1.4 nm at 1 kV / 11 pA Mode ll WD 1.0 mm
Visual resolution < 1.0 nm at 15 kV / 11 pA Mode ll WD 4-5 mm
FIB:
Visual resolution < 4.0 nm at 30kV / 1.1 pA
5-Axes motorized stage (Tilt eucentric)
Load 8" / 12" wafer
Detectors:
TLD Detector
ICE Detector
STEM I Detector
OmniProbe 200 Plucker
Gas injection system:
Platinum deposition
IDEP lll Deposition.
FEI Helios NanoLab 1200HPは、ナノスケールの精密加工に幅広い高度な機能を提供する革新的なイオンフライス加工装置です。このシステムは、ガリウムイオン源と電子源の両方を備えたデュアルビーム設計を特徴としています。これにより、独自の切断と構造化のエクスペリエンスが可能になり、わずか数分で30nmのサイズのフィーチャーとサーフェスを作成できます。これにより、FEI Heliosは3D MEMS/NEMSコンポーネントおよびデバイスの製造に最適です。このユニットには、自動化されたサンプル操作機、チューニング可能なミリングパラメータ、および最適な操作のために特別に設計されたユーザーインターフェイスが含まれています。直感的なユーザーインターフェイスにより、ユーザーはミルパラメータを素早く設定し、進捗状況を観察し、パラメーターを即座に調整できます。このツールを使用すると、フライス加工条件を動的に制御することができます。さらに、このアセットには複数のソースおよびガン構成が含まれているほか、スループットを最大化するための高精度のクローズドループ動作モデルも含まれています。高度な真空環境により、密閉された環境での効果的な機械操作が可能になり、汚染を最小限に抑えます。チャンバーには高貴なガス(典型的にはアルゴン)が含まれており、ダメージ保護とフライス加工速度の向上を実現しています。この装置には、温度制御を改善するための統合冷却システムも含まれています。最後に、幅広いガスフィードが用意されているため、フライス加工プロセスをより最適化することができます。Helios NanoLabは、精度と生産性を向上させるために設計されたさまざまな機能を提供します。3軸クローズドループ式モーションマシンにより、正確な部品位置決めを実現し、高度なモーションコントローラにより高周波の移動を可能にします。インテリジェントなオートチューニング機能により、加工された部品ごとに最適なフライスパラメータを簡単に見つけることができます。最後に、このツールは、耐衝撃性ハード軸やノイズ抑制システムなどの強化された安全機能を提供し、損傷や身体的損傷のリスクを最小限に抑えます。Helios NanoLabは、ミクロンおよびサブミクロン構造の製造に最適です。先進的な設計により、高速加工時間と優れた精度を実現します。ユーザーフレンドリーなインターフェースと高度な機能により、エレクトロニクス、医療、航空宇宙、半導体など、さまざまな業界のアプリケーションに最適です。Helios NanoLab 1200HPは、薄膜部品、MEMSデバイス、超高精度部品を加工する場合でも、信頼性の高い精密加工を提供します。
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