中古 FEI Helios NanoLab 1200 #9312072 を販売中

ID: 9312072
Wafer dual beam system Does not include Hard Disk Drive (HDD).
FEI Helios NanoLab 1200は、結晶および高分子ナノ粒子を含む幅広い材料の表面を操作するために使用できる汎用性の高いイオンミリングシステムです。15-200nmの範囲でナノスケールのサイズ変更を生成することができる高度なイオン源です。このシステムには、高トルク電動マイクロマニピュレータと対物レンズが装備されており、焦点を当てたイオンビーム(FIB)ビームの正確な位置決めが可能です。顕微鏡のナノ-ミクロン分解能により、サンプル表面形態の可視化と特性評価が容易になります。2000 oCまでのイオンビーム誘導加熱を使用して、ナノからマイクロ溝などの熱微細構造を作成することもできます。Helios NanoLab 1200には、システムの汎用性を最大化するために、いくつかのイオン銃源が装備されています。主な供給源は、加熱るつぼに導入された液体金属であり、FIBによる砲撃の際、液体金属は蒸発し、イオンとともに試料に向けられます。また、気相イオンと気化した液体金属イオンをイオントラップに注入することもできます。このイオントラップは、精密なイオンビーム形状とサイズを提供し、高アスペクト比の構造を提供することができる分子イオンを提供するためにも使用されます。次に、イオンビームを調整して、望ましい表面地形やイオンイメージングの目的を達成することができます。FEI Helios NanoLab 1200で使用されているデュアルピエゾスキャナは、サンプル表面の高速で立体的なイメージングとフライス加工を可能にします。これは、作動距離、視野、電圧などのイメージングパラメータを正確に制御するために使用できます。さらに、迅速かつ正確なサンプル特性評価と精密な構造の製造を可能にします。さらに、Helios NanoLab 1200では、サンプル表面の化学的、元素的、結晶的特性評価のための統合されたイメージングおよび分析ツールを採用しています。また、イオンビーム加工からサンプル成膜まで、高度なプロセスオートメーション機能と、ネットワークとリモート操作が容易なフルイーサネットインターフェイスを備えています。最先端の機能を備えたFEI Helios NanoLab 1200は、複雑なナノ構造を作成するための信頼性と汎用性の高いツールです。
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