中古 DENTON VACUUM CC-105 #72411 を販売中

DENTON VACUUM CC-105は、幅広い材料や用途の加工に使用される先進的なイオンフライス盤です。このシステムは、不活性ガスイオンの集中ビームを利用して表面汚染物質を除去し、超微細な分解能で構造的に均一な表面を作成します。ユニットはいくつかの部品で構成されています：自動シャトル配信プラットフォーム。高度なダイナミックステージツーステージシャッターマシン。高解像度、光学制御イメージングツール。そして高出力の100kVイオン源。イオン源は、調整可能なエネルギー設定を持つ安定したイオン源を提供し、標本へのさらなる損傷を避けながら、高い横方向の分解能を提供するビームを生成します。シャトル配信プラットフォームは、コンピュータによって制御され、スキャン電子顕微鏡で遠隔からアクセス可能な回転ダストビンに配置されたサンプルまたは基板の精密配置を可能にします。ダストビンは4つの象限に分割されており、プログラムを個別に実行し、利用可能なすべてのサンプル空間を完全に利用することができます。ダイナミックシャッターアセットは、調整可能なビームサイズを可能にし、さまざまな用途のさまざまな材料を処理するためのより均質で超微細な分解能をもたらします。また、試験片の汚染を最小限に抑えるのにも役立ちます。CC-105の高解像度イメージング機能は、サンプルを監視し、必要な程度のフライス加工を維持するための是正措置のための詳細なフィードバックを提供します。電気絶縁体では、デントン真空CC-105を使用して通電した一次電子ビームを供給し、材料表面に汚染のない効果的な処理を行うことができます。このアプリケーションは、最小限の損傷で超乾燥基板の表面に優れた分解能を提供することができるため、生体医学、有機、電子材料の範囲に最適です。CC-105は、表面汚染物質を効果的に除去するためにより高いエネルギーレベルを必要とするタングステン、タンタル、窒化ホウ素などの超硬材料にも適しています。高度なパルスイオン源と高出力100kVイオン源は、そのような材料を加工する際に必要な追加の応力を処理するように設計されています。DENTON VACUUM CC-105は、汎用性と高精度のイオンミリングモデルで、幅広い材料に適用するための超微細分解能で均一な表面を作成します。最先端のイメージング装置とダイナミックシャッターシステムにより、最も過酷な材料でも精密な加工と修正が可能になります。