中古 VARIAN VIISTa 810XP #9111187 を販売中

VARIAN VIISTa 810XPは、多種多様な半導体デバイス製造プロセス向けに設計された高度なイオンインプラントおよびモニタです。この先進的な装置は、RIB （Razor Edge Ion Implanter Beam）およびAVS-Ion （Atomized Vacuum Spout Ion）アプリケーションの両方のシングルバレルおよびデュアルバレル構成に対応できます。高用量レート、臨界精度、比類のないスループットを実現できます。また、要件に正確に一致するようにビーム電流を正確に設定するインテリジェントビーム制御システムも装備されています。VARIAN VIISTA 810 XPには多くのユニークな機能があり、さまざまなアプリケーションに最適なソリューションです。イオン源は超高真空（UHV）環境で動作し、非常に高い解像度に達することができます。その源は、シリコン、ホウ素、ホウ素、ヒ素、リン、ネオンなど様々な種類のために30から140 keVまでの高エネルギーとパワーにイオンを加速します。それにまた力の損失およびビーム散乱を減らすのを助ける低いガスの塵の部屋を作成するよい機械設計があります。VIISTa 810XPには、高度なプロセス制御とビーム品質を維持するために使用できる構成制御サブシステムもあります。このユニットは、複数のホストシステムに接続できる真空マシンコントローラと、リアルタイムのデータ分析と事前定義されたレポートを提供する統合レポートジェネレータで構成されています。さらに、このツールには、予測および是正メンテナンス機能を含むさまざまなアラームと診断機能が搭載されています。VIISTA 810 XPは、トリミングおよび深度プロファイリングプロセスを実行するように構成することもできます。マルチゾーンソースを搭載しており、ユーザー定義のパラメータに応じて着床、範囲調整、同時プロファイリングが可能です。アセットには、インプラント操作を容易にする高精度のシューティングモジュールとエネルギーコントロールモジュールもあります。最後に、その低ノイズ、低エネルギーアンプは、ビーム電力が可聴ノイズを発生させることなく正確に調整できることを保証します。全体的に、VARIAN VIISTa 810XPは非常に安定したプロセスと優れたビーム品質を提供する高度なイオンインプラントおよびモニターです。幅広い半導体加工・製造用途に最適です。設定が簡単で、高度なプロセス制御を監視および維持するために必要なツールがあります。