中古 VARIAN Viista 810 #9191583 を販売中
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ID: 9191583
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Medium current ion implanter, 12"
Parts machine
Standard power kit
High voltage warning display (X3)
Tungsten bernas gas ion source
Bernas source dual vaporizer
Standard gas box
External inert purge
Polished load lock chamber
Dosing performance:
Range: 1E11-1E16 ions/cm2
Uniformity: ≤ 0.5% (for implant energies > 5 keV)
Repeatability: ≤ 0.5% (wfr-to-wfr, cassette-to-cassette)
Implant angles:
Tilter: ± 60°in X and Y
Orientation: 0 - 360°
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Angle control accuracy and repeatability:
Beam parallelism: ± 0.1°
X & Y-tilter: ± 0.1°
Orientation: ± 1.0°
Wafer cooling:
200 mm: ≤100°C @ 800W Beam power
300 mm: ≤100°C @ 900W Beam power
Particles: <0.05/cm2 (mean value) for particle size > 0.16µm
Metals contamination:
Heavy metals: ≤ 5 ppm (TXRF)
Aluminum: ≤ 5 ppm (SIMS)
Implant condition: 80keV, 1e16/cm2
Ion mass resolution:
Energy > 5 kV, M/ΔM = 30
Energy > 20kV, M/ΔM = 50
Energy > 80kV, M/ΔM = 85
Mechanical throughput:
200 mm: > 270 WPH
300 mm: > 250 WPH (with buffer and 25 wafer cassette, Steady-state)
2008 vintage.
VARIAN Viista 810イオンインプランターとモニターは、材料にイオンを正確に埋め込むように設計された最先端の機械です。この先進的なデバイスは、ユーザーが着床が行われている間に進捗状況を監視できるようにしながら、効率的な着床率を実行するための特許技術を備えています。Viista 810は最新のRFイオン源を使用して、材料にイオンを埋め込む。このデバイスは、さまざまなサイズと組成のイオンを非常に高い精度で埋め込むことができます。また、高度な自動VAFS™システムを備えており、ユーザーが所望の着床率を指定することができます。VARIAN Viista 810は、高度なイオンビーム最適化技術を使用して、3次元空間のイオン軌道を調整し、埋め込みの最適な精度を実現します。これにより、所望の結果に必要なインプラントの数が大幅に削減されます。Viista 810のもう1つの重要な特徴は、低角度の散乱抑制技術であり、着床場所から散乱する放射線の量を減らします。これは、電離放射線への人間の曝露のリスクを大幅に低減するのに役立ちます。VARIAN Viista 810は、ユーザーがエネルギースペクトルに従ってイオンを分離できる高度なモノクロメータも備えています。これにより、望ましいイオンだけが材料に埋め込まれ、精度とコスト効率をさらに向上させることができます。デバイスの高度なグラフィックスユーザーインターフェイスは、ユーザーが着床プロセスの進行をリアルタイムで監視することもできます。このデバイスには、デバイスが過熱した場合に作動する自動シャットオフ機能など、さまざまな安全対策が含まれています。これは、デバイスを使用する際に最適な安全性を確保するのに役立ちます。全体として、Viista 810は高度で高効率なイオンインプランターとモニターです。放射線被ばくリスクを低減しながら、埋め込みプロセスの精度と費用対効果を高めるために設計されたさまざまな機能と技術を備えています。
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