中古 VARIAN VIISta 3000HP #9203292 を販売中
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販売された
ID: 9203292
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
High energy implanter, 12"
Energy range: 10 keV to 3750 keV
Voltage divider
Base system
Power Distribution: 60 Hz
Solid state: 0.75 MV D.C.Tandetron(TM)
Accelerator provides:
High output tandem NSI power supply
ASME/TUV Certified accelerator pressure vessel
VIISta single wafer processing end station with integral orientation control 0º- 360º at +/-1º accuracy
Precise control of tilt angle combined with fast recipe controlled stepped tilt modes up to +/- 60º at
An accuracy of +/- 0.1º
Gas cooled electro-static platen
Vertical scanning using linear servo motor driven
Industrial air bearing
Dual wafer capacity: 25
Polished load-locks with independent vacuum control
Load lock: 300 mm
Automatic pumping system includes:
VARIAN Triscroll 300 dry pump for the air-bearing differential seals stage One
Diaphragm roughing pump for the air bearing differential seals stage two
Venturi pump for the air-bearing differential seals stage three
(5) HELIX cryo pumps
(3)400mm HELIX standard capacity cryo pumps on the process chambers
(2) 250F HELIX high capacity cryo pumps located on beamline
(2) PFEIFFER TMH-261 turbomolecular pumps for the end station load locks
Turbomolecular pumping system consisting of:
PFEIFFER TPH 2101 for the source
(2) PFEIFFER TPH 2101 Pumps for the beamline locations
Remote pump kit:
To locate two cryo compressors
DI water system
Remote power distribution system includes
Standard and included in base system: 15 meters
Base system does not include roughing pumps
VARIAN VIISta control system
Microsoft windows NT(TM)/Windows 2000(TM)
Multitasking operating system
Next generation software control system monitoring over 3500 implant
Equipment parameters for optimal system performance
Automatic recipe set-up
Optimization
Control
Production scheduling
WIP Tracking
System diagnostics
Single wafer data logging
HSMS
SECS / GEM Compliant
Multilevel password protected security system
SPC Capability
Small WIP buffer with 4 load ports
Toxic gas box including:
Standard inert gas module
Exhaust connections from the top
source
(3) Standard process gas modules
(3) manometers
(2) exhausts
(5) Gas modules plus Inerts
(3) Plus Inerts are supplied as standard
Long life indirectly heated cathode ion source
Differentially pumped ion source chamber
System S2-93
CE Compliance
High voltage warning displays
3 Locations
System signal tower
Telemechanique
(3) Lights:
Green
Amber
Red
Un-interruptible power supply (UPS) to support control system
platen
EMO Interlocked vesda smoke detection system
Source exhaust flow interlock
Integrated weight handling tools
EMO Safety interlock
Lead floor not required
Required selects
Standard power kit: UES
Standard frequency kit: 60 Hz
Facilities from top
Signal tower: 3 Light standard RYG
Standard gas box internal process / External purge
Gas box exhaust from the top
HP Ar / N2 DISS 718
HP BF3 DISS 642
SDS PH3 VCR 1/2"
SDS AsH3 VCR 1/2"
Standard on tool chiller
Phase 2 IHC source without vaporizer
HELIX standard cryo kit: 400
Standard polyflow cryo exhaust
Customer supplied pumps to VSEA - Edwards iH-80
VSEA Supplied pfeiffer turbo pump kit
Load lock vent standard finish
Vent connection standard finish
High voltage warning display
Remote connection kit standard cryos: 15 Meters
(3)Anometer
gauges 0: 1kPa
Monitors exhaust pressure of the main gas box
Source shroud
Rough pump
Standard UPS
V3000 Factory automation kit: Micron
Includes indicator control kit
E11134600
Hermos integration kit
E11139470
Hokuyu E20000323 x 4
Vacuum connections from the bottom
Thru-beam wafer mapping
Installed Options:
Wafer viewing and wafer Id
SW - SEMI E58 ARAMS compliance
HP BF3 DISS 642
Graphite kit metals reduction
Service monitor PC
Modification in 2009:
V-Mask II upgrade kit
Roplat: 300MM
NCS Computer kit
Modification in 2013:
VIISta 3000 S/N ES154017 upgrade
E11451460 2Ghz Control system
UES
NCS
IAN
Dose controller eprom kit for medium current implanters
E11408090 for EHP dose contrllers
E11436450 for XP/XPT
Dose controllers reference PSB3312L EHP dose contrllrs
PSB3651-XP/XPT dose contrllrs
2005 vintage.
VARIAN VIISta 3000HPは、半導体ウェーハやガラスなどの基板中のイオンの埋め込みと分析に使用される高度なイオンインプラント装置です。このシステムは、高精度で機能することを可能にするいくつかのコンポーネントで構成されています。VARIAN VIISTA 3000 HPビームラインはイオンソースから始まり、イオンビームが生成され、操作され、集中されます。イオン源は、金属蒸発器、チタン、ジルコニウム、バリウムなどの金属酸化物源、または電界放出イオン銃のいずれかです。最初のビームを形成した後、ビームラインは、ビームの制御とエネルギー調整のために、質量分析器や最終開口部を含むビーム光学部品を通過します。VIISta 3000HPには、様々な分析および移植室が含まれています。分析チャンバーは同位体分離を可能にし、真空互換性のある注入チャンバーはイオンを基板に注入し、線量の均一性を監視することができます。このユニットの他の特徴としては、堅牢な静電容量または誘導結合プラズマ（CPI）源があり、安定した迅速な着床を保証しながら、低エネルギーおよびシングルイオン注入能力を可能にします。VIISTA 3000 HPには、1kV設置、4チャンネルビーム電流変圧器、スロットルバルブ、イオン電流モニターなど、幅広い周辺機器が装備されています。また、完全に自動化されたロボットサンプルハンダーも含まれています。これらのすべてのコンポーネントは、再現性と正確な着床性能を確保するために連携して動作します。VARIAN VIISta 3000HPは、インプラント技術の最前線に位置し、ユーザーフレンドリーで柔軟な機械機能を備えた正確なドーパント制御を可能にします。この先進的な機械は、高い着床率を維持しながらイオン爆撃による損傷を最小限に抑え、低エネルギーで高性能な着床を提供します。また、高度な制御ツールを備えており、自動化されたプロセスのためのユーザーのプログラム可能なレシピとパラメータ設定を提供します。最新の技術を活用することで、VARIAN VIISTA 3000 HPは利用可能な最も信頼性が高く、一貫したインプラント・システムの1つを提供します。
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