中古 VARIAN VIISion 80 #9181390 を販売中
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販売された
ID: 9181390
Ion implanter, 8"
Vacuum pump:
Terminal dry pump type: terminal, Edwards iQDP80
Chamber dry pump type: terminal, Edwards iQDP80
L/L dry pump type: V300HT
Gas system:
Gas / Connection Type
Gas channel #1: AsH3 gas SDS, 3.4L high pressure
Gas channel #2: PH3 gas SDS, 3.4L high pressure
Gas channel #3: Ar gas high pressure, 3.4L high pressure
Gas channel #4: BF3 gas high pressure, 3.4L high pressure
PFG gas: Xe gas CGA580
Utility:
Supply type: bottom
Compressor: CTI 8500
Wafer handler: enhancement type
Main monitor: LCD
Exhaust: duct box
Source head: Bernas
Tilter +/- 7 degrees, signal tower
Missing parts:
L/L chamber turbo pump
Elevator3 digital I/O PCB
(4) Chamber cryo pumps
Disk assy
Source turbo controller
E/S controller CPU boards
Source turbo pump
1995 vintage.
VARIAN VIISion 80は、イオン化された材料の生産とイオンインプラント工程の監視のために設計されたイオンインプラントおよびモニターです。一般的な半導体材料から先進的な化合物半導体まで、複数の用途向けに設計された幅広いドーピングプロファイルを処理するために使用されるツールです。さらに、VIISion 80は、最適なイオンインプラントのプロセス制御のための比類のないスループット率、精度、および精度を提供します。VARIAN VIISion 80は、イオンビームジェネレータとコントロールコンソールの2つのコンポーネントで構成されています。イオンビーム発生器は、低損失、高信頼性、低ノイズ、低振動イオン源であり、イオンインプラントのプロセスを非常に信頼できます。このイオン源は、インプラントの正確な制御を可能にするために十分に安定しているイオンのほぼ連続ビームを生成することができます。コントロールコンソールは、インプランターのコマンドおよびコントロールセンターであり、インプラントプロセスの制御、監視、および実行を担当します。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)とプログラマブルロジックコントローラ(PLC)で構成されており、ユーザーはインプラントのパラメータを制御し、インプラントのプロセスを監視し、後でレビューするために結果を保存できます。VIISion 80は、最先端の製造技術と洗練された計装技術でユーザーの最大のプロセス制御を提供します。VARIAN VIISion 80は、インプラントの最高品質と精度を確保するために、複数のソース技術を使用してビーム安定性を高め、インプラント投与量の比類のない精度と再現性を実現しています。複数のソース技術は、ソースの寿命を向上させるだけでなく、全体的なプロセスの信頼性を向上させます。VIISion 80はまた、優れたイオンインプラント選択性を提供し、幅広いドーピングレジームを備えた細かく調整されたドーピングプロファイルを可能にします。これにより、ユーザーはこれまでにないレベルの柔軟性とインプラント処理の制御を提供します。VARIAN VIISion 80は、最大3.5Aのビーム電流を持つ高電流ビームを提供することもできます。さらに、コントロールコンソールのインターフェイスにより、ビーム電流と電圧レベルをリアルタイムで制御できます。結論として、VIISion 80は、比類のない精度と再現性で最大のプロセス制御と精度を提供するように設計された高度なイオンインプラントおよびモニターです。VARIAN VIISion 80は、複数のソース技術や、インプラント工程の最大限の柔軟性と制御を保証する高電流ビーム配信などの機能を提供します。さらに、直感的なコントロールコンソールインターフェイスにより、簡単なインプラント制御、監視、レビューが可能です。
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