中古 VARIAN VIISion 200 #9230197 を販売中

VARIAN VIISion 200は、インプランタスループットと精度を最大化するように設計された高性能イオンインプラントおよびモニタリング装置です。この最先端ツールは、ドーパント注入、小型イオン注入、ゲートアレイ注入、超浅い接合インプラント、基板除去など、幅広い用途に使用できます。VIISion 200は、高度な技術的特徴を利用して、着床プロセスにおいて優れた精度と精度を提供します。注入監視機能は、用量、範囲、直線性などのプロセスパラメータを監視することにより、ユーザーに最適な注入プロファイルを提供するように設計されています。また、高感度イオンビームデフレクションユニットを搭載しており、内部ビームプロファイルと所望のビームプロファイルを比較して独自の動作を補正します。これにより、イオンが適切な位置合わせとエネルギー内に留まることが保証されます。最終的には、より良いインプラント精度と強化された寿命のパフォーマンスを可能にします。VARIAN VIISion 200には、正確な制御を提供することで歩留まりを最大化するのに役立つ非常に正確な長方形の角形コリメータが装備されています。このビームには2つの反伝達技術が含まれており、両方のイオンを両側に向けることができ、より効率的な着床を可能にします。さらに、VIISion 200は二次電子抑制装置で構成されており、汚染を低減し、傾斜角度調整されたイオン源によってビームの発生角度を変更することができます。ツール制御のために、VARIAN VIISion 200は、ユーザーフレンドリーなインターフェース設計で動作する強力なデジタルコントローラと統合されています。これにより、ユーザーはビーム電流、ビームエネルギー、基板温度などのパラメータを制御しながら、特定のタイプのインプラントに合わせてアセットを簡単に設定できます。さらに、このモデルには、機器の安全操作を保証する包括的な安全機能が付属しています。全体として、VIISion 200は、インプラント効率を向上させるために設計された強力で信頼性の高いイオン注入およびモニタリングシステムです。高度な技術により、VARIAN VIISion 200は優れた精度と精度を提供し、精密な埋め込み層を求める半導体業界のプロフェッショナルに最適です。