中古 VARIAN / GENUS G1510 / G1520 #9209301 を販売中

GENUS G1510&G1520イオンインプランター&モニターは、さまざまな材料にイオンを埋め込むために使用される最先端の荷電粒子加速器です。この高度にモジュール化されたコンピュータ制御システムには、イオン源とビーム監視カメラの両方が含まれており、イオン注入プロセスの正確な制御と精度を可能にします。イオン源は、アルゴン、酸素、リン、ケイ素など様々な種のイオンを生成するデュオプラスマトロン源です。これにより、イオンエネルギーやビーム電流の強みを幅広く発揮し、G1510&G1520は、エネルギー適応インプラントやエネルギー拡散インプラントなど、さまざまなイオン注入に適しており、RF MEMSやレーダー感受性MEMSなどの用途に適しています。ビーム監視カメラを使用してイオンビームを検出および監視することができ、オペレータは所望の設定を確認し、リアルタイムで着床プロセスを監視することができます。カメラはまた、ビームスポットサイズ、ビーム伝送、ビームのずれなど、さまざまなビームパラメータにフィードバックを提供することができます。これにより、注入プロセスのオペレータ制御が改善され、所望のイオン線量が確実に達成されるようになります。G1510&G1520システムは高度に自動化されており、オペレータインターフェイスが内蔵されており、すべてのデバイスパラメータと機械機能に簡単にアクセスできます。ユーザーインターフェイスは、アラームと監視機能も提供し、システムをリモートで監視および調整することができます。さらに、キャリブレーションモジュールを内蔵することで、各ソースの自動アライメントが可能になり、各ランの正確なイオン注入が保証されます。G1510&G1520は、オープンフレームとクローズドフレームの両方の設計で利用でき、従来の実験室とOEMアプリケーションの両方に設置できます。さらに、このシステムは、CEやSEMI 2336などのさまざまな安全および運用基準を満たすように設計されています。全体として、VARIAN G1510&G1520 Ion Implanter&Monitorは、高性能で汎用性の高いシステムであり、さまざまなエネルギーでさまざまなイオンを正確に埋め込むことができます。カメラやキャリブレーションモジュールなどの自動化された機能がさらに目的を高め、オペレータの制御と安全性を向上させます。その多様な用途と多様な機能により、G1510&G1520はインプラント用途のための非常に効率的で信頼性が高く、費用対効果の高いソリューションとなります。