中古 VARIAN EHP-500 #9142690 を販売中

VARIAN EHP-500イオンインプランターは、高電流イオンを半導体およびシリコンウェーハに安全かつ正確に埋め込むことができる、汎用性と信頼性の高いイオンインプラント装置です。最大電圧40kVまで対応可能な最先端の高電圧装置を搭載し、幅広い基板材料におけるイオン注入に柔軟性を提供します。200 keVの粒子を扱うことができ、異なる材料を埋め込むことができますが、高精度な結果を保証することができます。注入チャンバーはイオン化ソースの挿入を処理するように設計されており、その大部分はその場で実行することができ、基板の迅速かつ効率的なスループットを可能にします。さらに、チャンバーは10-4 Torrまでの過圧を処理するように設計されており、ウェーハへのイオンの乾燥および湿潤導入に適しています。VARIAN EHP500は、広範囲の基板に対応するように設計されており、導電性、耐腐食性、耐放射線性のある材料で作られています。EHP 500は、注入チャンバーとともに、注入プロセスにおけるさまざまなパラメータを監視できる洗練されたイオンモニターを搭載しています。これには、ビーム電流、ビーム位置、ビーム整列、イオンキネティックエネルギー、基板距離、基板温度およびドーピング濃度が含まれます。モニターは、リアルタイムおよびインプラント後のデータロギングも可能であり、オペレータはインプラントのパラメータを迅速かつ正確に分析および調整することができます。さらに、EHP500はグラフィックスクリーンを介して移植プロセスのそれぞれを視覚的に制御できるグラフィカルユーザーインターフェイスを備えています。例えば、オペレータは、ビーム配置、イオンエネルギー、基板距離、およびその他のパラメータをモニターから直接数秒で調整できます。ユーザーインターフェイスにより、インプラントの迅速なターンアラウンドが可能になり、また、漏れ電流や接合部深度の特性評価など、インプラント後のパラメータの測定が容易になり、最高品質のインプラント試料のみが提供されます。最後に、EHP-500には、イオンを移植室に急速に移動させる電場を作ることができる二次エレクトロスプレーユニットが装備されており、低速で基板を移動させる際に、非常に均一で再現性の高い結果を得ることができます。この高度なユニットは、低用量や高電圧などのあらゆるタイプのインプラントに適しています。結論として、VARIAN EHP 500は信頼性が高く、汎用性が高く、高精度なイオン注入機であり、様々な基板への注入が可能です。洗練されたモニターとユーザーインターフェースにより、注入プロセスを簡単に操作できます。高度なエレクトロスプレーユニットは、各サンプルへの正確で均一な注入を保証します。