中古 VARIAN EHP-500 #9092902 を販売中
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ID: 9092902
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 2001
Medium current ion implanter, 4"
Rotating, uncooled platen with silicon-coated 6-point clamp
(225) Wafer capacity highly polished load locks
Tungsten Bernas Ion source
HP gas box
Inert (Ar) connection
2-Stage low beam aperture
Ion beam filter
End station pumping: (2) varian 300HT loadlock turbo, (1) CT-10 chamber Cryo
Metals reduction kit
Si-coated acceleration column
Graphite target chamber side wall shields
Resolving chamber cold cathode vacuum gauge
V11 S/W, real time beam, purity check S/W
SECSII host communications
2000 vintage.
VARIAN EHP-500は半導体産業のためのイオン注入器およびモニターです。精度の高い高エネルギーのドーパント粒子を生産することができ、また、所望の着床率を確保するための信頼性の高い精度と監視オプションを提供します。インプランターは、電流精度と安定性が高い統合電源を備えています。ドーパント粒子に最大20個のマイクロアンプを供給することができ、最大36,000ワットの電力を得ることができます。これらのレベルでは、VARIAN EHP500は、1-500KeV範囲の高エネルギー要素を簡単に注入して監視することができます。これにより、インプランターは、特定のアプリケーション要件を満たすために異なるドーパントのインプラントを調整することができます。EHP 500では、イオンビームエネルギー制御およびモニタリングソフトウェアも使用しており、着床前および着床中にビームのエネルギープロファイルを簡単に検証できます。オペレータは、このソフトウェアを使用して、最大9つのビームエネルギーと最大のインプラント精度のための可変的な数の期間を管理することができます。さらに、このソフトウェアは、プロセスの最適化に役立つリアルタイム診断フィードバックを提供します。その強力な埋め込み機能に加えて、EHP500モニターはまた、堆積プロセスのin situイオン種の監視と高速データ収集と分析を提供します。その質量分析検出器は、イオンビームを分析および制御するためのシステムにしっかりと統合されています。モニターは10nm分解能でインプラント深度の範囲を測定し、オペレータはさまざまな基板にわたるインプラント深度とエネルギーをカスタマイズすることができます。EHP-500は、半導体インプラントの製造における精度と信頼性を保証するように設計されています。その電源とソフトウェアは、インプラントが最高基準に従って製造されることを保証するために必要な正確な制御とフィードバックをユーザーに提供します。
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